超辐射发光二极管
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103503174A

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:CN201280021162.2

    申请日:2012-04-12

    Abstract: 本发明涉及的超辐射发光二极管(100),在衬底(10)上具备至少以下部覆盖层(12)、发光层(14)以及上部覆盖层(16)的顺序来包含这些层的层叠体,层叠体,具有折射率波导型的光波导(21)。光波导(21)包含:第一台面部(31),通过加工上部覆盖层(16)而被形成为具有第一宽度;以及第二台面部(32),通过加工下部覆盖层(12)、发光层(14)以及上部覆盖层(16)而被形成为具有作为比第一宽度大的宽度的第二宽度。

    半导体发光元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102804416B

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201080065555.4

    申请日:2010-10-07

    Inventor: 折田贤儿

    Abstract: 本发明的半导体发光元件,具备在基板(1)的上表面所设置、且包括活性层(6)的氮化物半导体多层膜。在与活性层(6)的下表面接触的层或者活性层(6)上,形成有凹部(2)、段差和突状部之中至少1种;在氮化物半导体多层膜的上部,形成具有前端面和后端面、且构成光波导路的脊条,从脊条的宽度方向的中心至凹部(2)、段差或突状部的宽度方向的中心之距离,从前端面朝向后端面连续性地或阶段性地变化;活性层(6)的带隙能量,从前端面朝向后端面连续性地或阶段性地变化。

    半导体发光元件
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100426535C

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN200410035309.0

    申请日:2004-04-15

    Inventor: 折田贤儿

    CPC classification number: H01L33/20 H01L33/38 H01L33/42 H01L2933/0083

    Abstract: 本发明提供以高批量、低价格提供了一种使用氮化物系化合物半导体的高效率半导体发光元件。在p-GaN层4上形成二维周期凹凸结构,上述凹凸的周期为在由活性层(3)发射光的半导体中波长的1~20倍。结果,通过二元周期结构的凹凸而衍射的效果,改变由活性层(3)发射光的行进方向。在没有凹凸的情况下,满足在半导体元件和空气界面处的全反射条件的辐射角度光,不可能取出到半导体元件外,元件的发光效率低。另一方面,如本发明,以周期形成二维凹凸时,由于以不能形成全反射的角度来衍射光,所以能极大地提高向半导体元件外的取出效率,结果,可提高元件的发光效率。

    固体摄像元件、固体摄像器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1797774A

    公开(公告)日:2006-07-05

    申请号:CN200410101190.2

    申请日:2004-12-20

    Abstract: 本发明提供一种固体摄像元件、固体摄像器件及其制造方法。具有使低折射率材料(1)和高折射率材料(2)交替层叠的折射率周期构造、以及在面内方向上为同心且相似的形状(圆或者多边形)的折射率周期构造的光子晶体,配置在各光电转换元件上而构成固体摄像元件(11a、11b和11c)。只用本光子晶体就能同时进行RGB的色分离和聚光。另外,本光子晶体,对于具有层叠方向的折射率周期构造的多层膜,能用通过光刻和刻蚀在面内方向上设置同心且相似形状的空洞的方法来制造,或者在面内方向上形成同心且相似形状的基底上,能用通过自己隆起设置面内方向和层叠方向的折射率周期构造的方法来制造。

Patent Agency Ranking