-
公开(公告)号：CN101529558B
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200780038609.6
申请日：2007-10-16
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 安东尼·德拉列拉 , 阿兰·K·龙尼 , 金在贤 , 杰森·奥古斯蒂诺 , 拉金德尔·德辛德萨 , 王云昆 , 沙鲁巴·J·乌拉尔 , 安东尼·J·诺雷尔 , 基思·科门丹特 , 小威廉姆·丹堤
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/203
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32009 , H01J37/32541 , H01J37/3255
摘要： 等离子处理装置的元件包括具有气体通道的背衬构件，该背衬构件连接于具有气体通道的上电极。为了抵消该金属背衬构件和上电极间的热膨胀系数的差异，气体通道的位置和大小被调整为在室温下是没有对齐的，而在升高的处理温度下是大体上同心的。因为热膨胀，该弹性体粘合材料中会产生不一致的切变应力。应用可变厚度的弹性体粘合材料或使用包含多个块的背衬构件可调节切变应力。
-
公开(公告)号：CN101563762A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200780046900.8
申请日：2007-12-17
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺 , 安东尼·德拉列拉 , 艾伦·K·龙尼 , 金在贤 , 拉金德尔·德辛德萨 , 王云昆 , 沙鲁巴·J·乌拉尔 , 安东尼·J·诺雷尔 , 基思·科门丹特 , 小威廉姆·M·丹蒂
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C16/505
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/45565 , C23C16/45582 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32541 , H01L21/67017
摘要： 提供一种用于等离子处理设备的喷头电极总成。该喷头电极总成包括第一构件，贴附于第二构件。该第一和第二构件具有流体连通的第一和第二气体通道。当工艺气体流过这些气体通道，在该第一和第二气体通道产生总的压降。在该第二气体通道的该总的压降的部分大于在该第一气体通道的该总的压降的部分。
-
公开(公告)号：CN101529561A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038473.9
申请日：2007-10-16
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205
摘要： 一种用于在半导体基片处理中使用的等离子反应室的电极总成。该总成包括上部电极、贴附到该上部电极的上表面的背衬构件和外环。该外环围绕该背衬构件的外部表面并且位于该上部电极的上表面之上。
-
公开(公告)号：CN101578926B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200780046532.7
申请日：2007-10-16
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32009 , H01J37/32541 , H01J37/3255
摘要： 提供一种等离子体处理装置的元件，该元件包括适于调节在热循环过程中产生的应力的加固构件。该加固构件包括可偏斜垫片以调节由热膨胀系数的差异产生的力，同时使多余的微粒污染物的产生最小化。
-
公开(公告)号：CN101578926A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200780046532.7
申请日：2007-10-16
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32009 , H01J37/32541 , H01J37/3255
摘要： 提供一种等离子体处理装置的元件，该元件包括适于调节在热循环过程中产生的应力的加固构件。该加固构件包括可偏斜垫片以调节由热膨胀系数的差异产生的力，同时使多余的微粒污染物的产生最小化。
-
公开(公告)号：CN101563762B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200780046900.8
申请日：2007-12-17
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 杰森·奥古斯蒂诺 , 安东尼·德拉列拉 , 艾伦·K·龙尼 , 金在贤 , 拉金德尔·德辛德萨 , 王云昆 , 沙鲁巴·J·乌拉尔 , 安东尼·J·诺雷尔 , 基思·科门丹特 , 小威廉姆·M·丹蒂
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C16/505
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/45565 , C23C16/45582 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32541 , H01L21/67017
摘要： 提供一种用于等离子处理设备的喷头电极总成。该喷头电极总成包括第一构件，贴附于第二构件。该第一和第二构件具有流体连通的第一和第二气体通道。当工艺气体流过这些气体通道，在该第一和第二气体通道产生总的压降。在该第二气体通道的该总的压降的部分大于在该第一气体通道的该总的压降的部分。
-
公开(公告)号：CN101529558A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038609.6
申请日：2007-10-16
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 安东尼·德拉列拉 , 阿兰·K·龙尼 , 金在贤 , 杰森·奥古斯蒂诺 , 拉金德尔·德辛德萨 , 王云昆 , 沙鲁巴·J·乌拉尔 , 安东尼·J·诺雷尔 , 基思·科门丹特 , 小威廉姆·丹堤
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/203
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32009 , H01J37/32541 , H01J37/3255
摘要： 等离子处理装置的元件包括具有气体通道的背衬构件，该背衬构件连接于具有气体通道的上电极。为了抵消该金属背衬构件和上电极间的热膨胀系数的差异，气体通道的位置和大小被调整为在室温下是没有对齐的，而在升高的处理温度下是大体上同心的。因为热膨胀，该弹性体粘合材料中会产生不一致的切变应力。应用可变厚度的弹性体粘合材料或使用包含多个块的背衬构件可调节切变应力。
-
公开(公告)号：CN203588977U
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201190000763.6
申请日：2011-08-25
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67069
摘要： 本申请涉及一种等离子体约束环组件及其上部环、吊架组件、下部环和中部环，其中一种具有单个能移动的下部环的等离子体约束环组件，其可用于控制电容耦合等离子体反应室中的晶片区域压强，晶片被支承在下电极组件上且处理气体通过上部喷头电极组件被引入所述室。该组件包括上部环、下部环、吊架、吊架帽、间隔套筒和垫片。当在上电极和下电极之间的间隙调节过程中所述垫片与所述下电极组件进行接触时，所述下部环由所述吊架支撑并朝着所述上部环能移动。所述吊架帽啮合所述吊架的上端并配合入所述上部环中的吊架孔的上部。间隔套筒围绕所述吊架的下部并配合入所述吊架孔的下部。垫片配合在所述吊架的扩大的头部和所述下部环的下表面之间。间隔套筒的尺寸设为在抬高所述下部环的过程中避免摩擦所述吊架孔的所述内表面。
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
8 条记录 (耗时 0.021 秒)
