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公开(公告)号：CN103971706A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410028454.X
申请日：2014-01-21
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/8408
Abstract: 一种磁记录介质的制造方法，在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层。其中，所述润滑层是按如下方式形成的，即：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第1润滑剂；之后，使用溶解于有机溶媒的第2润滑剂，在所述被积层体上涂敷润滑剂。
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公开(公告)号：CN103971705A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410028647.5
申请日：2014-01-21
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/8408
Abstract: 一种磁记录介质的制造方法及装置，其目的在于降低润滑层的摩擦系数、且提高由润滑层对保护层表面的覆盖率。在一种在被积层体上按顺序形成磁记录层、保护层、润滑层的磁记录介质的制造方法中，润滑层的形成是使形成了保护层后的被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在被积层体上涂布第一润滑剂，在涂布了第一润滑剂后，使被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在被积层体上涂布第二润滑剂。
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公开(公告)号：CN104103292A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410116219.8
申请日：2014-03-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/8408 , G11B5/85
Abstract: 一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量。所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113874554A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038845.3
申请日：2020-12-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C25B1/245 , C25B1/50 , C25B15/023 , C25B9/70 , C25B9/60
Abstract: 提供一种氟气的制造方法，其能够抑制由雾导致的配管、阀的堵塞。采用具备在电解槽内进行电解液的电解的电解工序、测定电解中生成氟气的电流效率的电流效率测定工序、以及将电解液的电解时在电解槽的内部产生的流体从电解槽的内部经由流路向外部输送的送气工序的方法制造氟气。在送气工序中，根据在电流效率测定工序中测定的电流效率来切换流体流动的流路，在电流效率测定工序中测定的电流效率为预先设定的基准值以上的情况下，将流体输送到从电解槽的内部向第1外部输送流体的第1流路，在电流效率小于预先设定的基准值的情况下，将流体输送到从电解槽的内部向第2外部输送流体的第2流路。预先设定的基准值是50％以上的范围内的数值。
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公开(公告)号：CN106548791B
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201610806763.4
申请日：2016-09-07
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 对于本发明的磁记录介质而言，保护层(3)的润滑剂层(4)侧的最表面含有碳和50原子％～90原子％的范围内的氮，润滑剂层(4)与最表面接触形成，含有下式(1)～(3)的化合物A～C，膜厚为0.5～2nm。R1‑C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2‑R2‑CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(1)CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(2)HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)sCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(3)。
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公开(公告)号：CN104103292B
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201410116219.8
申请日：2014-03-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/8408 , G11B5/85
Abstract: 一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量。所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。
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公开(公告)号：CN106548791A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201610806763.4
申请日：2016-09-07
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 对于本发明的磁记录介质而言，保护层(3)的润滑剂层(4)侧的最表面含有碳和50原子％～90原子％的范围内的氮，润滑剂层(4)与最表面接触形成，含有下式(1)～(3)的化合物A～C，膜厚为0.5～2nm。R1-C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2-R2-CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(1)CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(2)HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)sCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥(3)。
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公开(公告)号：CN104078057A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410112268.4
申请日：2014-03-25
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/8408 , G11B5/85
Abstract: 一种磁记录介质的制造方法，其目的在于降低润滑层的摩擦系数、且提高由润滑层对保护层表面的覆盖率。在一种在被积层体上按顺序形成磁记录层、保护层、润滑层的磁记录介质的制造方法中，所述润滑层的形成是，使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在所述被积层体上涂布第一润滑剂，之后，使用溶解于有机溶剂的第二润滑剂在所述被积层体上涂布润滑剂，所述第一润滑剂中包含的化合物的分子量比所述第二润滑剂中包含的化合物的分子量高，所述第一润滑剂中包含的化合物的极性比所述第二润滑剂中包含的化合物的极性低。
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