真空蒸镀装置用岐管
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104561903A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201410520985.0

    申请日:2014-09-30

    CPC classification number: C23C14/24

    Abstract: 本发明提供一种提高蒸镀材料的利用效率的真空蒸镀装置用岐管。该真空蒸镀装置用岐管是联机式真空蒸镀装置用岐管,在单一岐管(11)的与基板(12)相对的基板对置面(11a)上设置有喷嘴列(14F、14R),上述喷嘴列(14F、14R)沿基板(12)的宽度方向隔开规定的喷嘴间距(P)突出设置多个具有喷嘴口的喷出用喷嘴(13),并且将喷嘴列(14F、14R)在基板(12)的移动方向上隔开规定的喷嘴列间隔(Lp)进行配置,基板(12)移动方向后方的喷嘴列(14R)的喷出用喷嘴(13)与基板(12)移动方向前方的喷嘴列(14F)的喷出用喷嘴(13)在基板(12)的移动方向上相对配置。

    蒸发装置、蒸镀装置以及蒸镀装置中的蒸发装置的切换方法

    公开(公告)号:CN100558929C

    公开(公告)日:2009-11-11

    申请号:CN200580014651.5

    申请日:2005-06-15

    CPC classification number: C23C14/243 C23C14/246

    Abstract: 一种在规定的真空度下使规定的材料蒸发的蒸发装置(4),包括:连接到真空泵(12)上,同时,在上壁部(11c)上设置能够放出蒸发的蒸发材料(B)的材料放出孔的蒸发用容器(11);借助升降用气缸装置(13)可以在该蒸发容器(11)内自由升降地设置、同时能够载置容纳蒸镀材料(A)的材料容纳容器(14)的载置台(15);在上述蒸发用容器(14)的材料放出孔(17)的周围,设置筒状的间隔壁构件(19),所述间隔壁构件(19),通过上述材料容纳容器(14)经由载置台(15)上升时覆盖其外周,抑制蒸发材料向所述蒸发用容器(11)内放出,并且,在上述载置台(15)及间隔壁构件(16)上,具有加热上述材料容纳容器(14)的加热装置(21)。

    真空蒸镀装置的控制方法

    公开(公告)号:CN112746243A

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN202011083536.6

    申请日:2020-10-12

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置的控制方法。真空蒸镀装置(1)的控制方法包括:打开量调整工序,对调整蒸镀材料的释放量的第一调整阀(21)和第二调整阀(31)的打开量进行调整;以及压力检测工序,取得蒸镀材料的释放压力的检测值,在打开量调整工序中,在第一调整阀(21)和第二调整阀(31)的双方打开的情况下,使用膜厚检测器对膜厚的检测值来调整打开量,在仅任意一方打开的情况下,使用释放压力的检测值来调整打开量。

    蒸镀装置以及蒸镀方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102051580A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010254950.9

    申请日:2010-08-12

    Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置以及蒸镀方法。在使用向下沉积方法进行蒸镀时,能避免自掩模落下的粒子附着在蒸镀于基板的成膜面上的膜上。蒸镀装置(1)在蒸镀用容器(2)内使被蒸镀源加热了的材料蒸发到被以成膜面(3a)朝上的方式保持的基板(3)上而进行成膜。其包括:固定配置于蒸镀用容器(2)内的上述排出用容器(14)下方的掩模保持台(9);载置基板,设置为能相对于掩模保持台(9)所保持的掩模(11)接近或远离地移动的基板支架(6)。在使上述基板支架移动到接近掩模(11)而将材料蒸镀到基板的成膜面上时,在掩模与基板之间设置间隙。在成膜完成后的基板更换时,粒子不会自掩模落下而能够防止粒子附着在蒸镀于基板上的膜上。

    真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法

    公开(公告)号:CN103361607B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201310092816.7

    申请日:2013-03-21

    Abstract: 本发明提供真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法。当更换第二坩锅(12B)时,利用第二闸阀(35B)关闭第二输送管(14B),并将第二蒸发装置(13B)的坩锅收容件(31B)从第二输送管(14B)取下,来更换第二坩锅(12B)。此时,大气流入第二蒸发装置(13B)内和第二输送管(14B)内。但是,在将坩锅收容件(31B)安装于第二输送管(14B)之后,打开第二除气阀(33B)来进行除气而成为规定的真空条件,从而当打开第二闸阀(35B)开始进行蒸镀时,大气不会进入真空蒸镀容器(10)内,不需要伴随大气的进入而对真空蒸镀容器(10)内进行除气。因此,可以使第一、第二蒸发装置(13A、13B)结构简单,并且可以在大气中进行第一、第二坩锅(12A、12B)的更换作业,从而可以提高作业性。

    真空蒸镀装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103924195A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201310721942.4

    申请日:2013-12-24

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置,在真空下对基板(K)进行蒸镀,其包括:多个坩埚(2),分别使蒸镀材料(A)蒸发而成为蒸发材料;阀(51),与上述坩埚(2)的下游侧连接;扩散容器(21),从上述阀(51)通过导入管(11)导入蒸发材料并使导入的蒸发材料扩散;以及多个喷嘴(25),将在所述扩散容器的内部(22)扩散的蒸发材料朝向基板(K)释放,其中,全部的所述导入管(11)不具有分路部,蒸镀速率为0.1~10/sec,扩散容器的内部空间厚度(D)为1m以下且喷嘴间最大距离(L)为5m以下,并且扩散容器的内部空间厚度(D)与喷嘴间最大距离(L)的关系,满足规定的公式(1)~(3)中的任意一个。

    真空蒸镀装置用岐管
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104561903B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201410520985.0

    申请日:2014-09-30

    Abstract: 本发明提供一种提高蒸镀材料的利用效率的真空蒸镀装置用岐管。该真空蒸镀装置用岐管是联机式真空蒸镀装置用岐管,在单一岐管(11)的与基板(12)相对的基板对置面(11a)上设置有喷嘴列(14F、14R),上述喷嘴列(14F、14R)沿基板(12)的宽度方向隔开规定的喷嘴间距(P)突出设置多个具有喷嘴口的喷出用喷嘴(13),并且将喷嘴列(14F、14R)在基板(12)的移动方向上隔开规定的喷嘴列间隔(Lp)进行配置,基板(12)移动方向后方的喷嘴列(14R)的喷出用喷嘴(13)与基板(12)移动方向前方的喷嘴列(14F)的喷出用喷嘴(13)在基板(12)的移动方向上相对配置。

    蒸镀装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103361608B

    公开(公告)日:2016-09-21

    申请号:CN201310095050.8

    申请日:2013-03-22

    Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置,在规定的蒸镀速率所必要的坩埚(22)的最小限温度下进行蒸镀,当坩埚(22)内的蒸镀材料(24)减少、来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量(从坩埚(22)供给的蒸发粒子的形成)减少而导致蒸镀速率降低,为了维持规定的蒸镀速率而使流量控制阀(19)的开度急剧变大的情况下,使坩埚(22)的目标加热温度以增量上升。其结果,来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量增加,维持了规定的蒸镀速率。通过使目标温度依次以增量上升,不仅能防止蒸镀材料(24)的热劣化且可以将蒸镀材料(24)使用到最后,并可以将蒸镀材料(24)的残留降到最低值。

    真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法

    公开(公告)号:CN103361607A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310092816.7

    申请日:2013-03-21

    Abstract: 本发明提供真空蒸镀装置和真空蒸镀装置的坩锅更换方法。当更换第二坩锅(12B)时,利用第二闸阀(35B)关闭第二输送管(14B),并将第二蒸发装置(13B)的坩锅收容件(31B)从第二输送管(14B)取下,来更换第二坩锅(12B)。此时,大气流入第二蒸发装置(13B)内和第二输送管(14B)内。但是,在将坩锅收容件(31B)安装于第二输送管(14B)之后,打开第二除气阀(33B)来进行除气而成为规定的真空条件,从而当打开第二闸阀(35B)开始进行蒸镀时,大气不会进入真空蒸镀容器(10)内,不需要伴随大气的进入而对真空蒸镀容器(10)内进行除气。因此,可以使第一、第二蒸发装置(13A、13B)结构简单,并且可以在大气中进行第一、第二坩锅(12A、12B)的更换作业,从而可以提高作业性。

    蒸镀装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103305797A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201310070826.0

    申请日:2013-03-06

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/544

    Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置。在所述蒸镀装置中,在将蒸发粒子向玻璃基板(12)引导的材料输送管(17)上,设置有用于调节流路的开度的流量控制阀(18),在比流量控制阀(18)靠向下游侧的材料输送管(17)内设有第一压力传感器(21),在真空室(11)内设有第二压力传感器(22)。控制器(24)利用上述两台压力传感器(21、22)测量出的压力(P1、P2)的压力差(P1-P2)求出蒸发粒子的流量,从而测量蒸发粒子向玻璃基板(12)的蒸镀速率。并且控制器(24)利用流量控制阀(18)调节材料输送管(17)的开度,以使所述测量的蒸镀速率成为规定的蒸镀速率。

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