-
公开(公告)号：CN103361608A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310095050.8
申请日：2013-03-22
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置，在规定的蒸镀速率所必要的坩埚（22）的最小限温度下进行蒸镀，当坩埚（22）内的蒸镀材料（24）减少、来自坩埚（22）的蒸镀材料（24）的蒸发量（从坩埚（22）供给的蒸发粒子的形成）减少而导致蒸镀速率降低，为了维持规定的蒸镀速率而使流量控制阀（19）的开度急剧变大的情况下，使坩埚（22）的目标加热温度以增量上升。其结果，来自坩埚（22）的蒸镀材料（24）的蒸发量增加，维持了规定的蒸镀速率。通过使目标温度依次以增量上升，不仅能防止蒸镀材料（24）的热劣化且可以将蒸镀材料（24）使用到最后，并可以将蒸镀材料（24）的残留降到最低值。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101228289A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200580051108.2
申请日：2005-08-25
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/001 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 一种真空蒸镀用校准装置，具有基片保持架(11)、连接用板(13)、位置调整装置(14)、伸缩式筒状遮断构件(15)及施力装置(16)；该基片保持架(11)在保持于真空容器(3)内的掩模的上方通过悬挂构件(12)保持，该悬挂构件(12)插通到形成于作为真空容器上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(13)设于真空容器的外部，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(14)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的基片(5)相对掩模的位置；该伸缩式筒状遮断构件(15)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(16)产生与因筒状遮断构件的内侧处于真空状态而产生的作用于连接用板的推压力方向相反的力。
-
公开(公告)号：CN100587103C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200580051108.2
申请日：2005-08-25
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/001 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 一种真空蒸镀用校准装置，具有基片保持架(11)、连接用板(13)、位置调整装置(14)、伸缩式筒状遮断构件(15)及施力装置(16)；该基片保持架(11)在保持于真空容器(3)内的掩模的上方通过悬挂构件(12)保持，该悬挂构件(12)插通到形成于作为真空容器上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(13)设于真空容器的外部，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(14)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的基片(5)相对掩模的位置；该伸缩式筒状遮断构件(15)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(16)产生与因筒状遮断构件的内侧处于真空状态而产生的作用于连接用板的推压力方向相反的力。
-
公开(公告)号：CN100549215C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200580051109.7
申请日：2005-08-25
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: C23C14/042
Abstract: 本发明的真空蒸镀用校准装置具有掩模保持架(7)、连接用板(12)、位置调整装置(13)、伸缩式筒状遮断构件(14)、及施力装置(15)；该掩模保持架(7)在保持于真空容器(3)内的基片(5)的下方通过悬挂构件(11)保持，该悬挂构件(11)插通到形成于作为容器的上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(12)设于真空容器的外方，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(13)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的掩模(8)相对基片(5)的位置；该伸缩式筒状遮断构件(14)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(15)发生与使筒状遮断构件的内侧处于真空状态从而对连接用板产生的推压力相反方向的力。
-
公开(公告)号：CN103361608B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201310095050.8
申请日：2013-03-22
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置，在规定的蒸镀速率所必要的坩埚（22）的最小限温度下进行蒸镀，当坩埚（22）内的蒸镀材料（24）减少、来自坩埚（22）的蒸镀材料（24）的蒸发量（从坩埚（22）供给的蒸发粒子的形成）减少而导致蒸镀速率降低，为了维持规定的蒸镀速率而使流量控制阀（19）的开度急剧变大的情况下，使坩埚（22）的目标加热温度以增量上升。其结果，来自坩埚（22）的蒸镀材料（24）的蒸发量增加，维持了规定的蒸镀速率。通过使目标温度依次以增量上升，不仅能防止蒸镀材料（24）的热劣化且可以将蒸镀材料（24）使用到最后，并可以将蒸镀材料（24）的残留降到最低值。
-
公开(公告)号：CN101228290A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200580051109.7
申请日：2005-08-25
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: C23C14/042
Abstract: 本发明的真空蒸镀用校准装置具有掩模保持架(7)、连接用板(12)、位置调整装置(13)、伸缩式筒状遮断构件(14)、及施力装置(15)；该掩模保持架(7)在保持于真空容器(3)内的基片(5)的下方通过悬挂构件(11)保持，该悬挂构件(11)插通到形成于作为容器的上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(12)设于真空容器的外方，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(13)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的掩模(8)相对基片(5)的位置；该伸缩式筒状遮断构件(14)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(15)发生与使筒状遮断构件的内侧处于真空状态从而对连接用板产生的推压力相反方向的力。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.017 seconds)
