公开(公告)号：CN111566322A

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201980006876.8

申请日：2019-03-05

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 村上雅明 ,  藤田任亨 ,  藤林孝博 ,  藤本惠美子 ,  小玉哲男

IPC: F01N3/08 ,  B01D53/94 ,  F01N3/24 ,  F01N13/08

Abstract: 废气净化装置(10)具备：废气接收器(20)，其具有圆筒状的主体(21)、设置于主体(21)并且供发动机的废气流入主体(21)的流入部(22)、以及设置于主体(21)并且供主体(21)内的废气排出的排出部(23)；喷嘴(31)，其向主体(21)内的废气中喷洒还原剂及还原剂前体的至少一方；以及脱硝反应器(40)，其供从排出部(23)排出的废气流入。排出部(23)形成为内径比主体(21)的内径小的筒状，贯通主体(21)并且内侧端(24)突出至主体(21)内。

公开(公告)号：CN103924195A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201310721942.4

申请日：2013-12-24

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 松本祐司 ,  藤本英志 ,  藤本惠美子 ,  大工博之

IPC: C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置，在真空下对基板（K）进行蒸镀，其包括：多个坩埚（2），分别使蒸镀材料（A）蒸发而成为蒸发材料；阀（51），与上述坩埚（2）的下游侧连接；扩散容器（21），从上述阀（51）通过导入管（11）导入蒸发材料并使导入的蒸发材料扩散；以及多个喷嘴（25），将在所述扩散容器的内部（22）扩散的蒸发材料朝向基板（K）释放，其中，全部的所述导入管（11）不具有分路部，蒸镀速率为0.1～10/sec，扩散容器的内部空间厚度（D）为1m以下且喷嘴间最大距离（L）为5m以下，并且扩散容器的内部空间厚度（D）与喷嘴间最大距离（L）的关系，满足规定的公式（1）～（3）中的任意一个。

公开(公告)号：CN202719916U

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201220412367.0

申请日：2012-08-17

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 藤本惠美子 ,  清水徹 ,  加藤刚

IPC: F28F9/22

Abstract: 本实用新型提供气体处理容器用整流装置，不必利用弯曲管道暂时向上方迂回，也能将下方送来的气体在容器入口充分整流并导向容器内的下方。其包括：气体导入流路(16)，将斜下方供给的气体转向水平方向并送入气体导入口(15)；迂回空间(17)，形成于气体通路(13)的上端部且使气体导入口(15)从侧方连通；台阶部(18b)和倾斜导向部(18c)，设置在迂回空间(17)；水平叶片(21A～21C)，沿上下方向以多层配置于气体导入口(15)的开口面；整流格栅(22)，配置在比气体导入口(15)更低位的气体通路(13)中。台阶部(18b)包括距气体导入口(15)规定距离(Lo)且从顶壁(18)垂下的下垂壁(18d)，倾斜导向部(18c)从台阶部（18b）向下游侧下方倾斜，将气体导向下方，越低位的水平叶片(21A～21C)对气流的阻力越大。

公开(公告)号：CN203768445U

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201320858786.1

申请日：2013-12-24

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 松本祐司 ,  藤本英志 ,  藤本惠美子 ,  大工博之

IPC: C23C14/24

Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，在真空下对基板（K）进行蒸镀，其包括：多个坩埚（2），分别使蒸镀材料（A）蒸发而成为蒸发材料；阀（51），与上述坩埚（2）的下游侧连接；扩散容器（21），从上述阀（51）通过导入管（11）导入蒸发材料并使导入的蒸发材料扩散；以及多个喷嘴（25），将在所述扩散容器的内部（22）扩散的蒸发材料朝向基板（K）释放，其中，全部的所述导入管（11）不具有分路部，蒸镀速率为扩散容器的内部空间厚度（D）为1m以下且喷嘴间最大距离（L）为5m以下，并且扩散容器的内部空间厚度（D）与喷嘴间最大距离（L）的关系，满足规定的公式（1）～（3）中的任意一个。

公开(公告)号：CN202786404U

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201220403488.9

申请日：2012-08-15

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 冈田利幸 ,  藤本惠美子 ,  大工博之

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/14

Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，能缩短直到开始蒸发为止的时间，坩埚不会因局部加热而破损，能形成均匀的蒸镀膜。该真空蒸镀装置（1）包括：真空蒸镀用的坩埚（4），收容金属蒸镀材料（3）；以及加热装置（5），使坩埚（4）中收容的蒸镀材料（3）熔融并蒸发。坩埚（4）内部的中央部具有柱状的突出部（44），加热装置5具有从背面侧加热突出部（44）的主加热器（51），以及从外侧加热坩埚（4）的内周面（43）的副加热器（52），利用主加热器（51）蒸发的蒸镀材料（3）的量多于利用副加热器（52）蒸发的蒸镀材料（3）的量。