聚合物绝缘子的非破坏检查方法及其检查设备

    公开(公告)号:CN1091519C

    公开(公告)日:2002-09-25

    申请号:CN97109951.0

    申请日:1997-03-28

    CPC classification number: G01N29/14

    Abstract: 被公开一个检查聚合物绝缘子封装缺陷的非破坏检查方法,该聚合物绝缘子具有一个FRP芯子,一层套在FRP芯子上的外皮部份,和至少一个金属构件封装在FRP芯子的至少一端,该非破坏检查方法包含以下步骤:测量当金属构件用一个夹紧模具往FRP芯子封装时产生的声发射信号;和根据过程中的声发射信号判定是否产生封装缺陷。还有,被公开的一个进行上述非破坏检查的设备。

    聚合物绝缘子的非破坏检查方法及其检查设备

    公开(公告)号:CN1168976A

    公开(公告)日:1997-12-31

    申请号:CN97109951.0

    申请日:1997-03-28

    CPC classification number: G01N29/14

    Abstract: 被公开一个检查聚合物绝缘子封装缺陷的非破坏检查方法,该聚合物绝缘子具有一个FRP芯子,一层套在FRP芯子上的外皮部分,和至少一个金属构件封装在FRP芯子的至少一端,该非破坏检查方法包含以下步骤:测量当金属构件用一个夹紧模具往FRP芯子封装时产生的声发射信号;和根据过程中的声发射信号判定是否产生封装缺陷。还有,被公开的一个进行上述非破坏检查的设备。

    磁盘用基片、磁盘及磁盘用基片的制造方法

    公开(公告)号:CN1158472A

    公开(公告)日:1997-09-03

    申请号:CN96123896.8

    申请日:1996-12-21

    Abstract: 本发明提供一种磁盘用基片,具有玻璃制磁盘用基片本体,其特征在于,此磁盘用基片本体至少在表面区域含有吸收光的金属元素,而且在此磁盘用基片本体的表面上形成纹理。向磁盘用基片表面区域内扩散金属元素的离子,或者在构成磁盘用基片的玻璃成分中,以氧化物形式含有金属元素。作为此玻璃,以Li2O-Al2O3-SiO2系的结晶玻璃为好,特别是,以组成是SiO2:65-85wt%、Li2O:8-15wt%、Al2O3:2-8wt%、P2O5:1-5wt%、ZrO2:1-10wt%,主结晶相是焦硅酸锂(Li2O·2SiO2)为好。

    磁盘用晶化玻璃基底的制造工艺

    公开(公告)号:CN1066279C

    公开(公告)日:2001-05-23

    申请号:CN96112715.5

    申请日:1996-10-04

    CPC classification number: C03B23/0307 C03B32/02

    Abstract: 制造磁盘用晶化玻璃基底的工艺,包含:(a)将带有均匀厚度和二个平坦主表面的非晶玻璃板以夹层体方式夹持在与非晶玻璃不起反应并在非晶玻璃晶化加热过程中不会变形的一对冲压装置之间;(b)加热到非晶玻璃退火点以上的温度,使夹层体堆叠形式中的非晶玻璃软化,使主表面贴在冲压装置的平坦表面上以消除翘曲并整平非晶玻璃板;以及(c)将温度提高到晶体生长温度以便在非晶玻璃中生长晶体,从而将非晶玻璃板晶化而又保持其无翘曲状态,随后凝固。

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