磁盘用基板、磁盘及磁盘用基板的制造方法

    公开(公告)号:CN1280356A

    公开(公告)日:2001-01-17

    申请号:CN00120467.X

    申请日:2000-07-10

    Inventor: 竹矢文则

    Abstract: 在至少含有一种碱金属的玻璃制磁盘用基板中,防止因碱金属离子向磁膜、保护膜等移动而产生突起物,使基板主面的Ra在5A以下。在基板外周侧端面和主面之间形成倒角部分,对端面和倒角部分实施碱金属离子不溶化处理和碱金属含量降低处理中的至少一个处理,在不溶化处理或降低处理后,对主面进行抛光加工。

    磁盘用基片、磁盘及磁盘用基片的制造方法

    公开(公告)号:CN1158472A

    公开(公告)日:1997-09-03

    申请号:CN96123896.8

    申请日:1996-12-21

    Abstract: 本发明提供一种磁盘用基片,具有玻璃制磁盘用基片本体,其特征在于,此磁盘用基片本体至少在表面区域含有吸收光的金属元素,而且在此磁盘用基片本体的表面上形成纹理。向磁盘用基片表面区域内扩散金属元素的离子,或者在构成磁盘用基片的玻璃成分中,以氧化物形式含有金属元素。作为此玻璃,以Li2O-Al2O3-SiO2系的结晶玻璃为好,特别是,以组成是SiO2:65-85wt%、Li2O:8-15wt%、Al2O3:2-8wt%、P2O5:1-5wt%、ZrO2:1-10wt%,主结晶相是焦硅酸锂(Li2O·2SiO2)为好。

    磁盘用晶化玻璃基底的制造工艺

    公开(公告)号:CN1066279C

    公开(公告)日:2001-05-23

    申请号:CN96112715.5

    申请日:1996-10-04

    CPC classification number: C03B23/0307 C03B32/02

    Abstract: 制造磁盘用晶化玻璃基底的工艺,包含:(a)将带有均匀厚度和二个平坦主表面的非晶玻璃板以夹层体方式夹持在与非晶玻璃不起反应并在非晶玻璃晶化加热过程中不会变形的一对冲压装置之间;(b)加热到非晶玻璃退火点以上的温度,使夹层体堆叠形式中的非晶玻璃软化,使主表面贴在冲压装置的平坦表面上以消除翘曲并整平非晶玻璃板;以及(c)将温度提高到晶体生长温度以便在非晶玻璃中生长晶体,从而将非晶玻璃板晶化而又保持其无翘曲状态,随后凝固。

    磁盘用晶化玻璃基底的制造工艺

    公开(公告)号:CN1153375A

    公开(公告)日:1997-07-02

    申请号:CN96112715.5

    申请日:1996-10-04

    CPC classification number: C03B23/0307 C03B32/02

    Abstract: 制造磁盘用晶化玻璃基底的工艺,包含:(a)将带有均匀厚度和二个平坦主表面的非晶玻璃板以夹层体方式夹持在与非晶玻璃不起反应并在非晶玻璃晶化加热过程中不会变形的一对冲压装置之间;(b)加热到非晶玻璃退火点以上的温度,使夹层体堆叠形式中的非晶玻璃软化,使主表面贴在冲压装置的平坦表面上以消除翘曲并整平非晶玻璃板;以及(c)将温度提高到晶体生长温度以便在非晶玻璃中生长晶体,从而将非晶玻璃板晶化而又保持其无翘曲状态,随后凝固。

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