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公开(公告)号：CN1193753A
公开(公告)日：1998-09-23
申请号：CN98100726.0
申请日：1998-03-12
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0015 , Y10S430/106
Abstract: 本发明为了提供一种化学增强的光刻胶,它可防止T－形光刻胶图形的形成并增强溶解速度对曝光的依赖性,它有良好的分辨率、聚焦和尺寸精度,用一种具有不同分子量的t－BOC保护的多羟苯乙烯聚合物的混合物作为化学增强光刻胶的基质聚合物和PAG混合在一起。该混合物的优选的分子量比率和混合比率分别为1∶5至1∶20,和10至30重量份的低分子量聚合物对100重量份的高分子量聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1220414A
公开(公告)日：1999-06-23
申请号：CN98120186.5
申请日：1998-10-23
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 一种化学增强的光刻胶正胶包括至少一种具有一种其极性通过酸催化剂发生变化的保护性基质的聚羟基苯乙烯树脂,其中该化学增强的光刻胶正胶与至少一种苯乙烯衍生物混合。
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公开(公告)号：CN1193128A
公开(公告)日：1998-09-16
申请号：CN98100895.X
申请日：1998-03-10
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/033
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G5/0692 , G03G15/751 , G03G2221/183 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题,提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶,并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性,将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t－BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
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公开(公告)号：CN1090342C
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN98100895.X
申请日：1998-03-10
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/033
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G5/0692 , G03G15/751 , G03G2221/183 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题，提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶，并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性，将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
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公开(公告)号：CN1110722C
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN98120186.5
申请日：1998-10-23
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0392
Abstract: 一种化学增强的光刻胶正胶，包括至少一种具有一种其极性通过酸催化剂发生变化的保护基的聚羟基苯乙烯树脂和一种光氧化剂，和一种化学增强的光刻胶负胶，至少包括一种聚羟基苯乙烯树脂，一种光氧化剂和一种可与酸催化剂发生交联反应的交联剂，其中所说的化学增强的光刻胶与基于所说的聚羟基苯乙烯树脂的重量处于1-20%的范围内的至少一种苯乙烯衍生物混合；以及由上述的光刻胶材料所得到的光刻胶图形。
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公开(公告)号：CN1109927C
公开(公告)日：2003-05-28
申请号：CN98100726.0
申请日：1998-03-12
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0015 , Y10S430/106
Abstract: 本发明为了提供一种化学增强的光刻胶，它可防止T-形光刻胶图形的形成并增强溶解速度对曝光的依赖性，它有良好的分辨率、聚焦和尺寸精度，用一种具有不同分子量的t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物的混合物作为化学增强光刻胶的基质聚合物和PAG混合在一起。该混合物的优选的分子量比率和混合比率分别为1∶5至1∶20，和10至30重量份的低分子量聚合物对100重量份的高分子量聚合物。
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