Invention Publication
- Patent Title: 化学增强的光刻胶
- Patent Title (English): Chemically-reinforced photoetching glue
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Application No.: CN98100895.XApplication Date: 1998-03-10
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Publication No.: CN1193128APublication Date: 1998-09-16
- Inventor: 井谷俊郎
- Applicant: 日本电气株式会社
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: 日本电气株式会社
- Current Assignee: 恩益禧电子股份有限公司
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 中科专利代理有限责任公司
- Agent 卢纪
- Priority: 056357/97 1997.03.11 JP
- Main IPC: G03F7/033
- IPC: G03F7/033
Abstract:
通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题,提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶,并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性,将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t－BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
Public/Granted literature
- CN1090342C 化学增强的光刻胶 Public/Granted day:2002-09-04
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IPC分类:
