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公开(公告)号：CN1193128A
公开(公告)日：1998-09-16
申请号：CN98100895.X
申请日：1998-03-10
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/033
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G5/0692 , G03G15/751 , G03G2221/183 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题,提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶,并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性,将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t－BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
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公开(公告)号：CN1115420A
公开(公告)日：1996-01-24
申请号：CN95102463.9
申请日：1995-03-02
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/0692 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G15/0216 , G03G15/0872 , G03G2215/00957 , G03G2215/0665 , G03G2215/0675 , G03G2221/183 , Y10S222/01
Abstract: 一种电子摄影光敏部件，它具有导电基底和形成在其上的感光层。该感光部件通过将电压加到与其相接触的起电装置上而得到起电，且该感光部件的端部部分的阻抗比在其中感光部件能够与起电装置相接触的其他区域部分的阻抗高。另外，还公布了采用该感光部件的处理组件和电子摄影设备。
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公开(公告)号：CN1090343C
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN95102463.9
申请日：1995-03-02
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/0692 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G15/0216 , G03G15/0872 , G03G2215/00957 , G03G2215/0665 , G03G2215/0675 , G03G2221/183 , Y10S222/01
Abstract: 一种电子摄影光敏部件，它具有导电基底和形成在其上的感光层。该感光部件通过将电压加到与其相接触的起电装置上而得到起电，且该感光部件的端部部分的阻抗比在其中感光部件能够与起电装置相接触的其他区域部分的阻抗高。另外，还公布了采用该感光部件的处理组件和电子摄影设备。
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公开(公告)号：CN1090342C
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN98100895.X
申请日：1998-03-10
Applicant: 日本电气株式会社
Inventor： 井谷俊郎
IPC: G03F7/033
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03G5/047 , G03G5/0614 , G03G5/0679 , G03G5/0692 , G03G15/751 , G03G2221/183 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 通过解决由光吸收引起的圆锥状光刻胶图形的问题，提供具有良好分辨率、聚焦和尺寸精度的化学增强的光刻胶，并同时产生高的热稳定性和对干法刻蚀的足够的抗蚀性，将具有芳环的树脂加入到含有一种脂环丙烯酸聚合物和一种光酸发生剂的化学增强的光刻胶中。该具有芳环的树脂最好为多羟苯乙烯聚合物、酚醛清漆聚合物或t-BOC保护的多羟苯乙烯聚合物。这些聚合物最佳的加入量为1至10重量份比100重量份的基质聚合物。
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