公开(公告)号：CN101360990B

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN200780001727.X

申请日：2007-01-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小林孝正 ,  萩原陆宏 ,  矢野祐树 ,  自然浩次

IPC: G01N21/896 ,  G01M11/00 ,  G02B5/30

CPC classification number: G01N21/8422 ,  G01N21/21 ,  G01N21/896

Abstract: 本发明在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振镜的层叠薄膜进行缺陷检查时，按照适当的顺序配置应该在拍摄光程中配置的构件。提供层叠有偏振片(1)和光学补偿层的层叠薄膜(11)的缺陷检测方法，包括：通过配置在层叠薄膜(11)的薄膜面的偏振片叠层侧的光源照射光的工序、通过配置在薄膜面的光学补偿层侧的摄像部(12)对层叠薄膜(11)的透过光像进行拍摄的工序、和根据由摄像部(12)拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜(11)的缺陷进行检测的缺陷检测工序，通过位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且与摄像部(13)邻接配置的检查用滤光器(15)、和位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器(15)和层叠薄膜(11)之间的检查用相位差滤光器(16)，利用摄像部(12)进行摄像。

公开(公告)号：CN107643612B

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN201710574885.X

申请日：2017-07-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 木川洋一 ,  自然浩次

IPC: G02F1/13

Abstract: 本发明提供一种检查装置以及检查方法。检查装置具备：光源部，其射出对作为检查对象的检查对象相位差膜照射的光；偏光膜，其配置在所述光源部与所述检查对象相位差膜之间，用于使从所述光源部射出的所述光通过所述检查对象相位差膜；检查部，其接收通过了所述检查对象相位差膜的所述光来检查缺陷；以及非平行用相位差膜，其配置在至从所述光源部射出的所述光被所述检查部接收为止的路径上。

公开(公告)号：CN101360990A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200780001727.X

申请日：2007-01-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小林孝正 ,  萩原陆宏 ,  矢野祐树 ,  自然浩次

IPC: G01N21/896 ,  G01M11/00 ,  G02B5/30

CPC classification number: G01N21/8422 ,  G01N21/21 ,  G01N21/896

Abstract: 本发明在使用检查用偏光滤光器或检查用相位差滤光器对具有偏振镜的层叠薄膜进行缺陷检查时，按照适当的顺序配置应该在拍摄光程中配置的构件。提供层叠有偏振片(1)和光学补偿层的层叠薄膜(11)的缺陷检测方法，包括：通过配置在层叠薄膜(11)的薄膜面的偏振片叠层侧的光源照射光的工序、通过配置在薄膜面的光学补偿层侧的摄像部(12)对层叠薄膜(11)的透过光像进行拍摄的工序、和根据由摄像部(12)拍摄的透过光像对存在于层叠薄膜(11)的缺陷进行检测的缺陷检测工序，通过位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且与摄像部(13)邻接配置的检查用滤光器(15)、和位于光源(13)和摄像部(12)之间的光程上且配置在检查用偏光滤光器(15)和层叠薄膜(11)之间的检查用相位差滤光器(16)，利用摄像部(12)进行摄像。

公开(公告)号：CN117885459A

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202311318589.5

申请日：2023-10-12

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小原泰裕 ,  小西隆博 ,  自然浩次

IPC: B42D25/22 ,  B42D25/475

Abstract: 本发明提供能够稳定地制造具有期望的形状及尺寸的膜芯片的带信息码的片的制造方法。本发明的实施方式的带信息码的片的制造方法包括：确定对于片的检查区域的工序；将检查区域划分成多个芯片区域并对各芯片区域进行检查的工序；以及将具有与多个芯片区域的位置和各芯片区域的检查结果相关的信息的信息码设置于片的工序。

公开(公告)号：CN117836612A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202280057312.9

申请日：2022-06-23

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 自然浩次 ,  山下裕司

IPC: G01N21/958 ,  G01B11/00

Abstract: 提供一种能够检测与以往相比格外微小的异物的透光性层叠体的检查方法。本发明的实施方式的透光性层叠体的检查方法包含：在把持单片的透光性层叠体的四边而固定于半空中的状态下进行透射检查，以检测透光性层叠体中的缺陷。在一个实施方式中，检查方法还包含对透光性层叠体赋予张力。在一个实施方式中，检查方法是检测透光性层叠体中的8μm～50μm尺寸的缺陷。在一个实施方式中，透光性层叠体的厚度为300μm以下。

公开(公告)号：CN107643612A

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201710574885.X

申请日：2017-07-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 木川洋一 ,  自然浩次

IPC: G02F1/13

Abstract: 本发明提供一种检查装置以及检查方法。检查装置具备：光源部，其射出对作为检查对象的检查对象相位差膜照射的光；偏光膜，其配置在所述光源部与所述检查对象相位差膜之间，用于使从所述光源部射出的所述光通过所述检查对象相位差膜；检查部，其接收通过了所述检查对象相位差膜的所述光来检查缺陷；以及非平行用相位差膜，其配置在至从所述光源部射出的所述光被所述检查部接收为止的路径上。

公开(公告)号：CN118613717A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202280090324.1

申请日：2022-11-21

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田中卓哉 ,  山下裕司 ,  自然浩次 ,  松林恭平

IPC: G01N21/896 ,  G01N21/89

Abstract: 提供能够高精度且高效地检查长条光学膜的长条光学膜的检查方法。本发明中检查的长条光学膜(F)被预先标记了与长条光学膜中的缺陷(D)的位置信息建立了关联的第一标识(M)。在本发明的宏观检查工序(ST2)中，通过读取第一标识，取得缺陷的位置信息，将拍摄视场比长条光学膜的宽度窄第一拍摄机构(6)的拍摄视场(VF1)的位置控制成能够拍摄该缺陷，拍摄长条光学膜，由图像处理机构(8)确定缺陷的准确的位置信息。在本发明的微观检查工序(ST3)中，基于在宏观检查工序中确定的缺陷的准确的位置信息，将与第一拍摄机构相比拍摄视场窄且拍摄倍率高的第二拍摄机构的拍摄视场(VF2)的位置控制成能够拍摄缺陷，拍摄长条光学膜，由图像处理机构(8)取得缺陷的详细信息。

公开(公告)号：CN117795288A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280055466.4

申请日：2022-06-29

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 山下裕司 ,  自然浩次 ,  尹炡玭

IPC: G01B11/30 ,  G01N21/958

Abstract: 本发明提供与以往相比可检测出格外微小的缺陷的光透射性积层体的检查方法。本发明的光透射性积层体的检查方法是具有第1主面与第2主面的单片光透射性积层体的检查方法，该检查方法包含以下步骤：以位移传感器检测该光透射性积层体的该第1主面的高度而获得位移数据；以光学系统扫描该光透射性积层体，并从由此所得的扫描图像制作缺陷的坐标图；以及基于该缺陷的坐标图来检测缺陷，该检查方法基于该位移数据，一边将获得该扫描图像时的该光学系统的焦点的高度位置与该第1主面的高度位置的距离维持固定，一边进行该光透射性积层体的扫描。