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公开(公告)号：CN111492458B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN201880081071.5
申请日：2018-11-14
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/08 , H01J3/04 , H01L21/265
摘要： 本发明描述一种用于将包括惰性气体和含氟气体的气体递送至等离子体浸没枪的气体供应组件，其中所述组件被配置成将体积不超过所述含氟气体和所述惰性气体的总体积的10％的所述含氟气体递送至所述浸没枪。所述含氟气体可自所述等离子体浸没枪中的材料沉积物产生挥发性反应产物气体，且从而引起所述等离子体浸没枪中等离子体生成细丝的再金属化。与所述气体量组合，所述组件和所述方法可使用气体流动速率以使清理效果优化且减少使用期间细丝材料自所述等离子体浸没枪的损失。
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公开(公告)号：CN105645423A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610004212.6
申请日：2011-08-16
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： C01B35/06
CPC分类号： C01B35/061 , C01P2006/88 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01J2237/31701 , Y02P20/134
摘要： 本文涉及同位素富集的含硼化合物，含有两个或以上的硼原子和至少一个氟原子，其中至少一个硼原子含有所需的硼同位素，所述同位素的浓度或比例高于其天然丰度的浓度或比例。所述化合物可以具有化学式B2F4。本文描述了合成这些化合物的方法和使用这些化合物的离子注入方法，以及描述了贮存和分配容器，其中有利地含有所述同位素富集的含硼化合物用于随后的分配应用。
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公开(公告)号：CN105637616A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201480056978.8
申请日：2014-08-14
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01L21/265 , H01J37/3171 , H01J37/32412 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01L21/26506 , H01L21/26546
摘要： 本发明描述了用于在基板中注入硅和/或硅离子的组合物、系统和方法，包括从相应的硅前体组合物中生成硅和/或硅离子，以及在基板中注入该硅和/或硅离子。
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公开(公告)号：CN111492458A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201880081071.5
申请日：2018-11-14
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/08 , H01J3/04 , H01L21/265
摘要： 本发明描述一种用于将包括惰性气体和含氟气体的气体递送至等离子体浸没枪的气体供应组件，其中所述组件被配置成将体积不超过所述含氟气体和所述惰性气体的总体积的10％的所述含氟气体递送至所述浸没枪。所述含氟气体可自所述等离子体浸没枪中的材料沉积物产生挥发性反应产物气体，且从而引起所述等离子体浸没枪中等离子体生成细丝的再金属化。与所述气体量组合，所述组件和所述方法可使用气体流动速率以使清理效果优化且减少使用期间细丝材料自所述等离子体浸没枪的损失。
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公开(公告)号：CN108565198A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201810453542.2
申请日：2013-02-13
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265 , H01L31/18 , H01L33/00
摘要： 本申请涉及用于改善注入束和源寿命性能的碳掺杂剂气体和协流。具体讲，本申请描述了离子注入的方法和系统，其中使用碳掺杂剂源材料实施碳掺杂。描述了各种气体混合物，包括碳掺杂剂源材料，以及用于所述碳掺杂剂的协流气体结合物。描述了在碳掺杂剂源材料中提供原位清洗，以及描述了具体的碳掺杂剂源气体、氢化物气体、氟化物气体、惰性气体、氧化物气体和其他气体的结合物。
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公开(公告)号：CN104272433B
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201380019986.0
申请日：2013-02-13
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号： H01L21/265 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01L31/18 , H01L33/005
摘要： 描述了离子注入的方法和系统，其中使用碳掺杂剂源材料实施碳掺杂。描述了各种气体混合物，包括碳掺杂剂源材料，以及用于所述碳掺杂剂的协流气体结合物。描述了在碳掺杂剂源材料中提供原位清洗，以及描述了具体的碳掺杂剂源气体、氢化物气体、氟化物气体、惰性气体、氧化物气体和其他气体的结合物。
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公开(公告)号：CN103153858B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201180049806.4
申请日：2011-08-16
申请人： 恩特格里斯公司
CPC分类号： C01B35/061 , C01P2006/88 , H01J2237/006 , H01J2237/08 , H01J2237/31701 , Y02P20/134
摘要： 本文涉及同位素富集的含硼化合物，含有两个或以上的硼原子和至少一个氟原子，其中至少一个硼原子含有所需的硼同位素，所述同位素的浓度或比例高于其天然丰度的浓度或比例。所述化合物可以具有化学式B2F4。本文描述了合成这些化合物的方法和使用这些化合物的离子注入方法，以及描述了贮存和分配容器，其中有利地含有所述同位素富集的含硼化合物用于随后的分配应用。
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