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公开(公告)号：CN105682808A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201480057530.8
申请日：2014-08-18
Applicant: 德克萨斯大学系统董事会
Inventor： 希德尔格塔·V·斯瑞尼华森 , 希拉旺·辛格尔
CPC classification number: B05D1/40 , B05D1/02 , B05D1/34 , B05D1/42 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/0466 , B05D3/0486 , B05D3/0493 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D5/00 , B29C35/0888 , B29C43/021 , B29C59/026 , B81C1/0046 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271
Abstract: 一种用于可程序化的沉积用户自定义外形的薄膜的基于喷墨的方法。通过多喷头将前体液体有机材料的液滴分配在基底上的多个位置处。使因背侧压力而弯曲的基顶降落，从而使所述基顶的正面进行与所述液滴进行第一接触，从而产生向外扩展的液体前沿，所述液体前沿与多个所述液滴融合以形成捕获在所述基底与所述基顶之间的邻接膜。然后，在一段时间之后，发生所述基顶、所述邻接膜和所述基底的非平衡过渡状态。然后，使所述邻接膜固化以将其交联成聚合物。然后，将所述基顶与所述聚合物分离从而将聚合物膜保留在所述基底上。通过这种方式，非均匀膜可以在无明显材料浪费的情况下以廉价方式而形成。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN111670493A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201880088011.6
申请日：2018-11-09
Applicant: 德克萨斯大学系统董事会
Inventor： 希德加塔·V·斯林瓦森 , 阿克希拉·马拉瓦拉普 , 希拉旺·辛格尔 , 劳伦斯·R·邓恩 , 布莱恩·高利克
IPC: H01L21/768 , H01L21/78
Abstract: 本技术的多个实施方案总体上涉及半导体器件架构和制造技术。更具体地，本技术的一些实施方案涉及使用受催化剂影响的化学蚀刻技术的硅蚀刻，并将其应用于三维存储器架构和晶体管。CICE是一种基于催化剂的蚀刻方法，可以用于半导体以及半导体的多层结构。CICE工艺的各种实施方案可以使用催化剂来蚀刻半导体基板并制造高纵横比特征。还公开了用于该目的的制造工具。这将使得在制造半导体器件时能够采用该技术。
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公开(公告)号：CN111670493B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201880088011.6
申请日：2018-11-09
Applicant: 德克萨斯大学系统董事会
Inventor： 希德加塔·V·斯林瓦森 , 阿克希拉·马拉瓦拉普 , 希拉旺·辛格尔 , 劳伦斯·R·邓恩 , 布莱恩·高利克
IPC: H01L21/768 , H01L21/78
Abstract: 本技术的多个实施方案总体上涉及半导体器件架构和制造技术。更具体地，本技术的一些实施方案涉及使用受催化剂影响的化学蚀刻技术的硅蚀刻，并将其应用于三维存储器架构和晶体管。CICE是一种基于催化剂的蚀刻方法，可以用于半导体以及半导体的多层结构。CICE工艺的各种实施方案可以使用催化剂来蚀刻半导体基板并制造高纵横比特征。还公开了用于该目的的制造工具。这将使得在制造半导体器件时能够采用该技术。
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公开(公告)号：CN111758156A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201880090163.X
申请日：2018-12-21
Applicant: 德克萨斯大学系统董事会
IPC: H01L23/525 , H01L23/538
Abstract: 一种用于制造三维(3D)堆叠式集成电路的方法。利用取放策略将源晶圆与利用标准二维(2D)半导体制造技术制造的器件层堆叠在一起。源晶圆可以以顺序或平行的方式堆叠。该堆叠可以以面对面、面对背、背对面或背对背的方式进行。可使用硅通孔(TSV)来连接以面对面、背对面或背对背的方式堆叠的源晶圆。或者，可使用层间通孔(ILV)来连接以面对面方式堆叠的源晶圆。
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公开(公告)号：CN105682808B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201480057530.8
申请日：2014-08-18
Applicant: 德克萨斯大学系统董事会
Inventor： 希德尔格塔·V·斯瑞尼华森 , 希拉旺·辛格尔
CPC classification number: B05D1/40 , B05D1/02 , B05D1/34 , B05D1/42 , B05D3/007 , B05D3/0254 , B05D3/0466 , B05D3/0486 , B05D3/0493 , B05D3/067 , B05D3/12 , B05D5/00 , B29C35/0888 , B29C43/021 , B29C59/026 , B81C1/0046 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271
Abstract: 一种用于可程序化的沉积用户自定义外形的薄膜的基于喷墨的方法。通过多喷头将前体液体有机材料的液滴分配在基底上的多个位置处。使因背侧压力而弯曲的基顶降落，从而使所述基顶的正面进行与所述液滴进行第一接触，从而产生向外扩展的液体前沿，所述液体前沿与多个所述液滴融合以形成捕获在所述基底与所述基顶之间的邻接膜。然后，在一段时间之后，发生所述基顶、所述邻接膜和所述基底的非平衡过渡状态。然后，使所述邻接膜固化以将其交联成聚合物。然后，将所述基顶与所述聚合物分离从而将聚合物膜保留在所述基底上。通过这种方式，非均匀膜可以在无明显材料浪费的情况下以廉价方式而形成。
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