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公开(公告)号：CN102884613A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201180022552.7
申请日：2011-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/042 , B24B37/005 , B24B49/12 , H01L22/12 , H01L22/26
Abstract: 一种控制研磨的方法包括以下步骤：研磨基板；以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围，及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言，基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置，产生修改波长范围，在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征，且确定该选定光谱特征的特性的值。
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公开(公告)号：CN106252220A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610633597.2
申请日：2011-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66 , B24B37/013 , B24B49/12
CPC classification number: B24B37/042 , B24B37/005 , B24B49/12 , H01L22/12 , H01L22/26 , H01L21/30625 , B24B37/013
Abstract: 公开了用于终点检测的动态或适应性追踪光谱特征。一种控制研磨的方法包括以下步骤：研磨基板；以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围，及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言，基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置，产生修改波长范围，在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征，且确定该选定光谱特征的特性的值。
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公开(公告)号：CN106252220B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201610633597.2
申请日：2011-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66 , B24B37/013 , B24B49/12
CPC classification number: B24B37/042 , B24B37/005 , B24B49/12 , H01L22/12 , H01L22/26
Abstract: 公开了用于终点检测的动态或适应性追踪光谱特征。一种控制研磨的方法包括以下步骤：研磨基板；以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围，及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言，基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置，产生修改波长范围，在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征，且确定该选定光谱特征的特性的值。
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公开(公告)号：CN102884613B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201180022552.7
申请日：2011-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , H01L21/66
CPC classification number: B24B37/042 , B24B37/005 , B24B49/12 , H01L22/12 , H01L22/26
Abstract: 一种控制研磨的方法包括以下步骤：研磨基板；以及接收选定光谱特征的识别、具有宽度的波长范围，及该选定光谱特征的特性以在研磨期间进行监视。在研磨该基板的同时测量来自该基板的光的一系列光谱。根据该系列光谱产生该选定光谱特征的该特性的一系列值。对于来自该系列光谱的至少一些光谱而言，基于该光谱特征在用于该系列光谱中的先前光谱的先前波长范围内的位置，产生修改波长范围，在该修改波长范围中搜寻该选定光谱特征，且确定该选定光谱特征的特性的值。
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