公开(公告)号：CN120068652A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202510234260.3

申请日：2019-12-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴蒂亚 ,  冯捷 ,  D·坎特维尔

IPC: G06F30/27 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67 ,  G06F18/213 ,  G06F18/214 ,  G06F18/21

Abstract: 描述了用于在高度共线响应空间中的规范性分析的方法、系统和非瞬态计算机可读介质。方法包括：接收与制造设备的制造参数相关的膜性质数据。方法进一步包括：确定膜性质数据是相关的并且与目标数据不同。方法进一步包括：选择与目标数据正交的膜性质数据的一组数据点。方法进一步包括：对此组数据点执行特征提取。方法进一步包括：基于特征提取确定对一个或多个制造参数的更新以满足目标数据。

公开(公告)号：CN113169044B

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN201980082795.6

申请日：2019-12-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴蒂亚 ,  冯捷 ,  D·坎特维尔

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

Abstract: 描述了用于在高度共线响应空间中的规范性分析的方法、系统和非瞬态计算机可读介质。方法包括：接收与制造设备的制造参数相关的膜性质数据。方法进一步包括：确定膜性质数据是相关的并且与目标数据不同。方法进一步包括：选择与目标数据正交的膜性质数据的一组数据点。方法进一步包括：对此组数据点执行特征提取。方法进一步包括：基于特征提取确定对一个或多个制造参数的更新以满足目标数据。

公开(公告)号：CN112805635B

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN201980066062.3

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN116415691B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202310347326.0

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G06N20/00 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN116415691A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202310347326.0

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G06N20/00 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN112805635A

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201980066062.3

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN111183510A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880064838.3

申请日：2018-09-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·坎特维尔

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/67

Abstract: 此处公开的实施例总的来说涉及用于对时间序列数据中的异常值进行分类的方法、系统、以及非瞬态计算机可读取介质，由定位在基板处理腔室中的传感器来收集所述时间序列数据。客户装置从定位在基板处理腔室中的传感器来接收所述时间序列数据。客户装置将所述时间序列数据转换为有界均匀信号。客户装置识别不匹配预期行为的信号子分段。客户装置对不匹配所述预期行为的经识别的所述子分段进行分类。

公开(公告)号：CN120068655A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202510236342.1

申请日：2019-12-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴蒂亚 ,  冯捷 ,  D·坎特维尔

IPC: G06F30/27 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67 ,  G06F18/213 ,  G06F18/214 ,  G06F18/21

Abstract: 描述了用于在高度共线响应空间中的规范性分析的方法、系统和非瞬态计算机可读介质。方法包括：接收与制造设备的制造参数相关的膜性质数据。方法进一步包括：确定膜性质数据是相关的并且与目标数据不同。方法进一步包括：选择与目标数据正交的膜性质数据的一组数据点。方法进一步包括：对此组数据点执行特征提取。方法进一步包括：基于特征提取确定对一个或多个制造参数的更新以满足目标数据。

公开(公告)号：CN111183510B

公开(公告)日：2023-11-17

申请号：CN201880064838.3

申请日：2018-09-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： D·坎特维尔

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/67

Abstract: 此处公开的实施例总的来说涉及用于对时间序列数据中的异常值进行分类的方法、系统、以及非瞬态计算机可读取介质，由定位在基板处理腔室中的传感器来收集所述时间序列数据。客户装置从定位在基板处理腔室中的传感器来接收所述时间序列数据。客户装置将所述时间序列数据转换为有界均匀信号。客户装置识别不匹配预期行为的信号子分段。客户装置对不匹配所述预期行为的经识别的所述子分段进行分类。

公开(公告)号：CN113169044A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980082795.6

申请日：2019-12-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴蒂亚 ,  冯捷 ,  D·坎特维尔

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

Abstract: 描述了用于在高度共线响应空间中的规范性分析的方法、系统和非瞬态计算机可读介质。方法包括：接收与制造设备的制造参数相关的膜性质数据。方法进一步包括：确定膜性质数据是相关的并且与目标数据不同。方法进一步包括：选择与目标数据正交的膜性质数据的一组数据点。方法进一步包括：对此组数据点执行特征提取。方法进一步包括：基于特征提取确定对一个或多个制造参数的更新以满足目标数据。