公开(公告)号：CN112805635B

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN201980066062.3

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN116415691B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202310347326.0

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G06N20/00 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN116415691A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202310347326.0

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G06N20/00 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。

公开(公告)号：CN112805635A

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201980066062.3

申请日：2019-10-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·巴纳 ,  D·坎特维尔 ,  W·比沙拉 ,  L·英格尔

IPC: G05B13/04 ,  G05B19/418 ,  H01L21/67

Abstract: 构建了一种空间模型以预测处理腔室的性能。所述空间模型用于在工艺开发阶段期间更快地收敛至期望的工艺。一种用于在制造期间控制器件性能变化性的系统包括工艺平台、板上计量(OBM)工具、以及基于机器学习的工艺控制模型。所述系统接收SEM计量数据，并使用机器学习技术来定期地(例如晶片到晶片、批次到批次、腔室到腔室等等)更新工艺控制模型。对工艺控制模型的定期更新可考虑到腔室到腔室变化性。