公开(公告)号：CN115997269A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202180046285.0

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： C·L·博德里 ,  V·菲鲁兹多尔 ,  J·F·萨默斯 ,  T·E·威兰特维奇 ,  H-H·都 ,  J·F·贝恩克

IPC: H01J37/32

Abstract: 本文描述了一种在将涂层组成物或块体组成物暴露于苛刻的化学环境(诸如基于氢和/或基于卤素的化学物质)之后和/或在将涂层组成物或块体组成物暴露于高能等离子体之后提供增强的抗侵蚀性和抗腐蚀性的抗等离子体保护涂层组成物和块体组成物。本文还描述了一种使用电子束离子辅助沉积、物理气相沉积、或等离子体喷涂来利用抗等离子体保护涂层涂覆制品的方法。本文还描述了一种处理晶片的方法，此方法呈现减少数量的基于钇的粒子。

公开(公告)号：CN118974311A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202280094593.5

申请日：2022-12-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·F·贝恩克 ,  C·黄 ,  阿尔伯特三世·B·希克斯 ,  S·D·马克斯 ,  J·F·萨默斯 ,  C·L·博德里 ,  T·J·富兰克林

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/44

Abstract: 一种方法包括将供应装置固定到腔室部件的一个或多个通道的入口。通道在腔室部件的包括入口的第一侧与腔室部件的包括一个或多个通道的出口的第二侧之间提供一个或多个气体流动路径。方法进一步包括将排放装置固定到一个或多个通道的出口。方法进一步包括执行多个原子层沉积循环，以在腔室部件的一个或多个通道的内表面上沉积耐腐蚀涂层。

公开(公告)号：CN115380359A

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202180027346.9

申请日：2021-04-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： V·菲鲁兹多尔 ,  C·L·博德里 ,  H-H·都 ,  J·F·贝恩克 ,  J·F·萨默斯

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  H01L21/67

Abstract: 本文公开一种保护性涂层组成物，在经涂覆的物件(诸如腔室部件)暴露于恶劣化学性环境(诸如氢基和/或卤素基环境)和/或在经涂覆的物件(诸如腔室部件)暴露于高能量等离子体时，所述保护性涂层组成物为所述物件提供抗腐蚀性和抗冲蚀性。本文还描述了一种使用电子束离子辅助沉积、物理气相沉积或等离子体喷涂利用保护性涂层涂覆物件的方法。本文还描述了一种处理晶片的方法，所述方法呈现出平均每个晶片少于约5个钇基微粒缺陷。