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发明公开
基于氧化钇的涂层和块体组成物审中-实审

公开(公告)号：CN115997269A

公开(公告)日：2023-04-21

申请号：CN202180046285.0

申请日：2021-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： C·L·博德里 , V·菲鲁兹多尔 , J·F·萨默斯 , T·E·威兰特维奇 , H-H·都 , J·F·贝恩克

IPC: H01J37/32

Abstract: 本文描述了一种在将涂层组成物或块体组成物暴露于苛刻的化学环境(诸如基于氢和/或基于卤素的化学物质)之后和/或在将涂层组成物或块体组成物暴露于高能等离子体之后提供增强的抗侵蚀性和抗腐蚀性的抗等离子体保护涂层组成物和块体组成物。本文还描述了一种使用电子束离子辅助沉积、物理气相沉积、或等离子体喷涂来利用抗等离子体保护涂层涂覆制品的方法。本文还描述了一种处理晶片的方法，此方法呈现减少数量的基于钇的粒子。

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