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公开(公告)号：CN103069543B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201180041468.X
申请日：2011-06-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/481 , C23C16/52
Abstract: 本发明实施例提供对用于化学气相沉积处理中的处理腔室部件施加表面涂层的方法与设备。一实施例中，所述设备提供喷头设备，所述喷头设备包括主体；多个延伸通过主体的导管，所述多个导管各自具有延伸至主体的处理表面的开孔；及设置于处理表面上涂层，涂层为约50微米至约200微米厚，且涂层包括约0.8的放射系数、约180微英寸至约220微英寸的平均表面粗糙度及约15%或更低的孔隙度。
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公开(公告)号：CN116802565A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202280012979.7
申请日：2022-02-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿萨夫·基德龙 , 施佳炜 , 陈亮瑜 , 张哲恺 , 杨子慧 , 尼姆罗德·史密斯 , 格兰特·王 , 普雷斯顿·冯 , 瓦苏曼·加纳帕蒂·斯里兰卡 , 大卫·卡利 , 鲁道夫·布鲁纳
IPC: G03F7/20
Abstract: 本揭露案的实施方式涉及投射稳定系统和具有投射稳定系统的无掩模光刻系统。投射稳定系统补偿移动图像投射系统(IPS)的传播振动。在无掩模光刻工艺操作之前，IPS处于处理位置。一或多个加强件耦接至IPS。一或多个加强件向耦接至每个加强件的挠曲件施加压力。挠曲件耦接至IPS，以在无掩模光刻工艺的操作期间向IPS提供稳定化。例如，一或多个加强件保护IPS免受在操作期间传播穿过系统的振动。
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公开(公告)号：CN103069543A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180041468.X
申请日：2011-06-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/45574 , C23C16/481 , C23C16/52
Abstract: 本发明实施例提供对用于化学气相沉积处理中的处理腔室部件施加表面涂层的方法与设备。一实施例中，所述设备提供喷头设备，所述喷头设备包括主体；多个延伸通过主体的导管，所述多个导管各自具有延伸至主体的处理表面的开孔；及设置于处理表面上涂层，涂层为约50微米至约200微米厚，且涂层包括约0.8的放射系数、约180微英寸至约220微英寸的平均表面粗糙度及约15%或更低的孔隙度。
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