公开(公告)号：CN120051594A

公开(公告)日：2025-05-27

申请号：CN202380073178.6

申请日：2023-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 丛者澎 ,  阿舒尔·J·阿塔诺斯 ,  霍坎·C·保罗 ,  尼姆罗德·史密斯 ,  盛涛 ,  维恩·德兰

IPC: C30B25/02

Abstract: 本文公开的实施方式大体提供了对处理腔室中的气体流的改进控制。在至少一个实施方式中，圆盘及衬垫组件包括具有外径的石英圆盘、在石英圆盘中形成的多个孔洞或槽、及内径小于石英圆盘的外径的石英环。

公开(公告)号：CN119654450A

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202380056796.X

申请日：2023-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 丛者澎 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  盛涛 ,  尼姆罗德·史密斯 ,  阿舒尔·J·阿塔诺斯 ,  维恩·N·德兰

IPC: C30B25/16 ,  C30B25/14 ,  C30B25/08

Abstract: 本公开内容涉及用于处理腔室以促进沉积工艺可调整性的导流器(flow guide)、处理配件和相关方法。在一个实施方式中，一种导流器包括中板，该中板具有第一侧和沿着第一方向与该第一侧相对的第二侧。该第一侧和该第二侧是弧形的。该导流器包括：第一凸缘，相对于该中板的第三侧向外延伸，并相对于该中板的外侧面向外延伸；以及第二凸缘，相对于该中板的第四侧向外延伸，并相对于该中板的该外侧面向外延伸。该第四侧沿着第二方向与该第三侧相对，该第二方向与该第一方向相交。该导流器包括限定在该第一凸缘与该第二凸缘之间的矩形流口。

公开(公告)号：CN119546804A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380053803.0

申请日：2023-01-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 丛者澎 ,  阿舒尔·J·阿塔诺斯 ,  盛涛 ,  尼姆罗德·史密斯 ,  维恩·N·德兰

IPC: C30B25/10

Abstract: 描述了一种用于加热气体的设备。所述设备为在沉积腔室(诸如外延沉积腔室)中定位的预热环及加热器组件。所述预热环具有被配置为使用一个或多个加热器加热的第一部分。所述一个或多个加热器穿过在预热环下面的处理容积的侧壁设置并且被配置为加热所述预热环，使得在所述预热环上方流动的气体亦在基板上方流动之前被加热。所述一个或多个加热器可包括在所述预热环的第一部分的远端处设置的两个加热器。一个或多个温度传感器亦被配置为测量预热环的温度。

公开(公告)号：CN119856275A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202380065385.7

申请日：2023-01-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 丛者澎 ,  阿舒尔·J·阿塔诺斯 ,  尼姆罗德·史密斯 ,  理查德·O·柯林斯

IPC: H01L21/687 ,  C30B25/12

Abstract: 在本文中描述的实施方式涉及基座配件。基座配件包含：基座支撑板，所述基座支撑板包含：多个基座升降杆孔和多个基座支撑孔、凹陷在所述多个基座支撑孔内且耦接至所述基座支撑板的多个基座支撑件，及升降杆组件。多个基座支撑件容纳多个基座支撑销。支撑主体以与基座支撑板间隔开的关系支撑支撑销连杆。升降杆组件容纳在多个基座升降杆孔中。升降杆组件包含：升降杆帽和包含基座止动板的基座升降杆。基座支撑板止动件能容纳在基座升降杆孔内。

公开(公告)号：CN116802565A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202280012979.7

申请日：2022-02-01

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 阿萨夫·基德龙 ,  施佳炜 ,  陈亮瑜 ,  张哲恺 ,  杨子慧 ,  尼姆罗德·史密斯 ,  格兰特·王 ,  普雷斯顿·冯 ,  瓦苏曼·加纳帕蒂·斯里兰卡 ,  大卫·卡利 ,  鲁道夫·布鲁纳

IPC: G03F7/20

Abstract: 本揭露案的实施方式涉及投射稳定系统和具有投射稳定系统的无掩模光刻系统。投射稳定系统补偿移动图像投射系统(IPS)的传播振动。在无掩模光刻工艺操作之前，IPS处于处理位置。一或多个加强件耦接至IPS。一或多个加强件向耦接至每个加强件的挠曲件施加压力。挠曲件耦接至IPS，以在无掩模光刻工艺的操作期间向IPS提供稳定化。例如，一或多个加强件保护IPS免受在操作期间传播穿过系统的振动。