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公开(公告)号：CN116802565A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202280012979.7
申请日：2022-02-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿萨夫·基德龙 , 施佳炜 , 陈亮瑜 , 张哲恺 , 杨子慧 , 尼姆罗德·史密斯 , 格兰特·王 , 普雷斯顿·冯 , 瓦苏曼·加纳帕蒂·斯里兰卡 , 大卫·卡利 , 鲁道夫·布鲁纳
IPC: G03F7/20
Abstract: 本揭露案的实施方式涉及投射稳定系统和具有投射稳定系统的无掩模光刻系统。投射稳定系统补偿移动图像投射系统(IPS)的传播振动。在无掩模光刻工艺操作之前，IPS处于处理位置。一或多个加强件耦接至IPS。一或多个加强件向耦接至每个加强件的挠曲件施加压力。挠曲件耦接至IPS，以在无掩模光刻工艺的操作期间向IPS提供稳定化。例如，一或多个加强件保护IPS免受在操作期间传播穿过系统的振动。
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