公开(公告)号：CN117377788A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202280037474.6

申请日：2022-05-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 吉留刚一 ,  苏哈斯·班加罗尔·乌梅什 ,  苏希尔·阿伦·萨曼特 ,  马丁·李·瑞克 ,  雷蔚 ,  基索尔·库马尔·卡拉提帕拉比尔 ,  希里什语·A·佩特 ,  张富宏 ,  普拉沙斯·科斯努 ,  安德鲁·腾科

IPC: C23C14/35

Abstract: 本案提供一种在PVD腔室中处理基板的方法。在一些实施方式中，一种在PVD腔室中处理基板的方法包括以下步骤：将来自该PVD腔室中所设置的一靶的材料溅射并溅射到基板上，其中从该靶溅射的该材料的至少部分通过一个或多个上部磁体、一个或多个第一磁体及一个或多个第二磁体所提供的磁场被引导到该基板，该一个或多个上部磁体绕支撑基座上方的该PVD腔室的处理空间设置，该支撑基座用于该PVD腔室中的该基板，该一个或多个第一磁体绕该支撑基座设置并在该基板的边缘区域处提供增加的磁场强度，该一个或多个第二磁体设置在该支撑基座下方，该一个或多个第二磁体增加该基板的中心区域处的磁场强度。

公开(公告)号：CN116802653A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202280012111.7

申请日：2022-01-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 普拉沙斯·科斯努 ,  卡廷克·拉马斯瓦米 ,  阿吉特•巴拉克里斯南 ,  卡尔蒂克·萨哈 ,  乌梅什•克尔卡尔 ,  维希瓦·帕迪 ,  普拉松·舒克拉 ,  苏希尔·阿伦·萨曼特

IPC: G06N20/20

Abstract: 本文所述的实施方式包括用于产生为半导体处理设备中的处理建模的混合模型的处理。在特定实施方式中，建立混合机器学习模型的方法包含识别跨越第一范围的处理和/或硬件参数的第一组案例，并且在实验室中针对第一组案例进行实验。该方法可进一步包含编译来自实验的实验输出，并且针对第一组案例进行基于物理的模拟。在实施方式中，该方法可进一步包含编译来自模拟的模型输出，并且利用机器学习算法将模型输出与实验输出相关联以提供混合机器学习模型。