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公开(公告)号:CN117222860B
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202280030681.9
申请日:2022-04-25
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种系统包括存储器和至少一个处理装置,所述至少一个处理装置操作地耦合至所述存储器,以通过执行多个操作来促进蚀刻配方开发工艺。这些操作包括:接收启动使用蚀刻配方的蚀刻工艺的迭代以蚀刻多种材料的请求,所述多种材料各自位于多个反射测量法测量点中的相应一个反射测量法测量点处;获得由所述蚀刻工艺的所述迭代产生的所述多种材料中的每种材料的材料厚度数据;和基于所述材料厚度数据确定一或多个蚀刻参数。
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公开(公告)号:CN117120663A
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN202280025633.0
申请日:2022-03-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 阿卜杜拉·扎法尔 , 威廉·约翰·杜兰德 , 种心原 , 肯里克·乔伊 , 胡蔚泽 , 陈劲文 , 阿米尔·巴亚提 , 米歇尔·桑佩德罗 , 菲利普·A·克劳斯 , 阿道夫·米勒·艾伦
IPC: C23C16/448
Abstract: 本文提供了用于处理基板的方法及设备。例如,被构造为与处理腔室一起使用的气体供应器包括安瓿及传感器组件,该安瓿储存前驱物并包括用于接收载气的输入端和用于向该处理腔室提供载气和前驱物的混合物的输出端,且该传感器组件包括检测器及红外源以及气体测量空间,该红外源可操作地连接至该混合物流经的壳体的外部,且该气体测量空间设置在该壳体内并沿着该壳体的内壁,使得该混合物中的该前驱物的浓度可以由该检测器测量并传送至控制器。
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公开(公告)号:CN117222860A
公开(公告)日:2023-12-12
申请号:CN202280030681.9
申请日:2022-04-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: G01B11/06
Abstract: 一种系统包括存储器和至少一个处理装置,所述至少一个处理装置操作地耦合至所述存储器,以通过执行多个操作来促进蚀刻配方开发工艺。这些操作包括:接收启动使用蚀刻配方的蚀刻工艺的迭代以蚀刻多种材料的请求,所述多种材料各自位于多个反射测量法测量点中的相应一个反射测量法测量点处;获得由所述蚀刻工艺的所述迭代产生的所述多种材料中的每种材料的材料厚度数据;和基于所述材料厚度数据确定一或多个蚀刻参数。
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