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公开(公告)号：CN108780761A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780016905.X
申请日：2017-03-10
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L21/67253 , G05D11/132 , H01L21/67017
Abstract: 方法及气体流量控制组件被配置为以所需流量比例输送气体至处理腔室区。在一些实施方式中，组件包含一个或更多个MFC和背压控制器(BPC)。组件包含控制器、处理气体源、分配歧管、耦接至分配歧管且被配置为感测分配歧管的背压的压力传感器、处理腔室、连接在分配歧管与处理腔室之间以控制其间气体流动的一个或更多个质量流量控制器、及与一个或更多个质量流量控制器以流体并联关系提供的背压控制器，其中达到精确流量比例控制。替代实施方式包含上游压力控制器，被配置为控制载气的流动以控制背压。作为其他方面，描述了用于控制分区气体流量比例的进一步的方法及组件。
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公开(公告)号：CN109477752A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780032596.5
申请日：2017-05-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 质量流验证系统与设备可依据扼流原理而验证质量流控制器(MFC)的质量流速率。这些系统与设备可以包括并联耦接的多个不同尺寸的流量限制器。可以经由依据MFC的设定点而选择通过流量限制器中的一个的流动路径以验证各种流动速率。可以经由在扼流条件下的流量限制器的上游的压力与温度测量而确定质量流速率。也提供依据扼流原理验证质量流速率的方法，以及其他态样。
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公开(公告)号：CN108886001A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780016943.5
申请日：2017-03-10
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L21/67253 , G05D11/132 , H01L21/67017
Abstract: 方法和气体流量控制组件经配置而将气体以所需流量比输送到处理腔室区。在一些实施方式中，组件包括一或多个MFC和背压控制器(BPC)。组件包括控制器、处理气体源、分配歧管、压力传感器、处理腔室、一或多个质量流量控制器和背压控制器，压力传感器耦接至分配歧管且经配置而感测分配歧管的背压，一或多个质量流量控制器连接于分配歧管与处理腔室之间以控制分配歧管与处理腔室之间的气体流量，背压控制器与一或多个质量流量控制器以流体并联关系设置，其中实现精确的流量比控制。替代实施方式包括上游压力控制器，上游压力控制器经配置而控制载气的流量，以控制背压。作为其他方面本案描述用于控制分区气体流量比的进一步方法与组件。
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公开(公告)号：CN112020689B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN201980028315.8
申请日：2019-02-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 叶祉渊 , 贾斯汀·霍夫 , 玛塞勒·E·约瑟夫森
Abstract: 质量流量校验系统和设备基于压力衰减原理来校验质量流量控制器(MFC)的质量流率。实施方式包括用于在管线中耦合经校准的气体流量标准器或待测试的MFC以从气源接收气流的位置；串联耦合到管线中的所述位置以接收气流的控制体积；串联耦合到控制体积的限流器；串联耦合到限流器的泵；和控制器，经适配以允许气源使气体流过质量流量控制校验系统，以在控制体积中达到稳定的压力、终止来自气源的气流，并且随着时间测量控制体积中的压力衰减速率。公开了许多额外的方面。
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公开(公告)号：CN108780761B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201780016905.X
申请日：2017-03-10
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 方法及气体流量控制组件被配置为以所需流量比例输送气体至处理腔室区。在一些实施方式中，组件包含一个或更多个MFC和背压控制器(BPC)。组件包含控制器、处理气体源、分配歧管、耦接至分配歧管且被配置为感测分配歧管的背压的压力传感器、处理腔室、连接在分配歧管与处理腔室之间以控制其间气体流动的一个或更多个质量流量控制器、及与一个或更多个质量流量控制器以流体并联关系提供的背压控制器，其中达到精确流量比例控制。替代实施方式包含上游压力控制器，被配置为控制载气的流动以控制背压。作为其他方面，描述了用于控制分区气体流量比例的进一步的方法及组件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112020689A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980028315.8
申请日：2019-02-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 叶祉渊 , 贾斯汀·霍夫 , 玛塞勒·E·约瑟夫森
Abstract: 质量流量校验系统和设备基于压力衰减原理来校验质量流量控制器(MFC)的质量流率。实施方式包括用于在管线中耦合经校准的气体流量标准器或待测试的MFC以从气源接收气流的位置；串联耦合到管线中的所述位置以接收气流的控制体积；串联耦合到控制体积的限流器；串联耦合到限流器的泵；和控制器，经适配以允许气源使气体流过质量流量控制校验系统，以在控制体积中达到稳定的压力、终止来自气源的气流，并且随着时间测量控制体积中的压力衰减速率。公开了许多额外的方面。
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公开(公告)号：CN104335326A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380029684.1
申请日：2013-06-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戴维·K·卡尔森 , 埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯 , 肯里克·乔伊 , 玛塞勒·E·约瑟夫森 , 丹尼斯·德马斯 , 埃姆雷·库瓦利奇 , 穆罕默德·图格鲁利·萨姆特
IPC: H01L21/02
CPC classification number: F25B21/02 , C23C16/448 , C23C16/4482 , H01L21/02
Abstract: 在此提供用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备。在一些实施方式中，一种用于热管理在基板处理中使用的前驱物的设备可包括：主体，所述主体具有开口，所述开口依一定尺寸设计以接纳储存容器，所述储存容器内设置有液体或固体前驱物，所述主体由导热材料制造；一或多个热电装置，所述一或多个热电装置邻近所述开口而耦接至所述主体；以及散热体，所述散热体耦接至所述一或多个热电装置。
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公开(公告)号：CN119512237A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411362537.2
申请日：2019-02-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 叶祉渊 , 贾斯汀·霍夫 , 玛塞勒·E·约瑟夫森
Abstract: 质量流量校验系统和设备基于压力衰减原理来校验质量流量控制器(MFC)的质量流率。实施方式包括用于在管线中耦合经校准的气体流量标准器或待测试的MFC以从气源接收气流的位置；串联耦合到管线中的所述位置以接收气流的控制体积；串联耦合到控制体积的限流器；串联耦合到限流器的泵；和控制器，经适配以允许气源使气体流过质量流量控制校验系统，以在控制体积中达到稳定的压力、终止来自气源的气流，并且随着时间测量控制体积中的压力衰减速率。公开了许多额外的方面。
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公开(公告)号：CN118913409A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410898784.8
申请日：2017-05-17
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 质量流验证系统与设备可依据扼流原理而验证质量流控制器(MFC)的质量流速率。这些系统与设备可以包括并联耦接的多个不同尺寸的流量限制器。可以经由依据MFC的设定点而选择通过流量限制器中的一个的流动路径以验证各种流动速率。可以经由在扼流条件下的流量限制器的上游的压力与温度测量而确定质量流速率。也提供依据扼流原理验证质量流速率的方法，以及其他态样。
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公开(公告)号：CN114895718A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210527535.9
申请日：2017-03-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05D7/06
Abstract: 方法和气体流量控制组件经配置而将气体以所需流量比输送到处理腔室区。在一些实施方式中，组件包括一或多个MFC和背压控制器(BPC)。组件包括控制器、处理气体源、分配歧管、压力传感器、处理腔室、一或多个质量流量控制器和背压控制器，压力传感器耦接至分配歧管且经配置而感测分配歧管的背压，一或多个质量流量控制器连接于分配歧管与处理腔室之间以控制分配歧管与处理腔室之间的气体流量，背压控制器与一或多个质量流量控制器以流体并联关系设置，其中实现精确的流量比控制。替代实施方式包括上游压力控制器，上游压力控制器经配置而控制载气的流量，以控制背压。作为其他方面本案描述用于控制分区气体流量比的进一步方法与组件。
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