公开(公告)号：CN102056393B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201010240670.2

申请日：2010-07-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 瓦伦丁·N·托多罗夫 ,  萨姆尔·班纳 ,  安库尔·阿加瓦尔 ,  陈志刚 ,  王泽江 ,  安德鲁·阮 ,  马丁·杰夫·萨利纳斯

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/321 ,  B44C1/227 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/3244

Abstract: 本发明提供等离子体处理设备以及形成等离子体的方法。在一些实施方式中，等离子体处理设备包括具有内处理空间的处理腔室；接近该处理腔室设置的第一RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间；以及接近该处理腔室设置的第二RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间，该第二RF线圈相对于该第一RF线圈同轴设置，其中该第一和第二RF线圈被配置为使得流经该第一RF线圈的RF电流与流经该第二RF线圈的RF电流为异相。

公开(公告)号：CN102054648B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201010240684.4

申请日：2010-07-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 萨姆尔·班纳 ,  瓦伦丁·N·托多罗夫 ,  肯尼思·S·柯林斯 ,  安德鲁·阮 ,  马丁·杰夫·萨利纳斯 ,  陈志刚 ,  安库尔·阿加瓦尔 ,  阿尼茹达·帕 ,  王泽江

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32165 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32174

Abstract: 本发明提供双模电感耦合等离子体反应器及所述双模电感耦合等离子体反应器的使用方法。在一些实施方式中，双模电感耦合等离子体处理系统可包括处理腔室，该处理腔室具有介质盖和设置在该介质盖上方的等离子体源组件。该等离子体源组件包括多个线圈，该线圈配置为将RF能量感应耦合至处理腔室以在所述处理腔室中形成并维持等离子体，用于调整施加给该多个线圈中每个线圈的RF电流的相对相的相控制器，以及耦合至该相控制器和该多个线圈的RF产生器。