公开(公告)号：CN101925980B

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN200980103376.2

申请日：2009-01-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 布赖恩·H·伯罗斯 ,  罗纳德·史蒂文斯 ,  雅各布·格雷森 ,  乔舒亚·J·波德斯塔 ,  桑迪普·尼杰霍安 ,  洛里·D·华盛顿 ,  亚历山大·塔姆 ,  萨姆埃德霍·阿卡赖亚

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/452 ,  C23C16/481 ,  C23C16/52 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明的实施例一般涉及用于在基板上进行化学汽相沉积(CVD)的方法及设备，特定的是，涉及用于金属有机化学汽相沉积的工艺腔室及部件。该设备包括：腔室主体，界定工艺容积；喷洒头，位于第一平面，并界定该工艺容积的顶端部分；承载板，在第二平面而延伸跨越该工艺容积，并在该喷洒头与该基座板之间形成上方工艺容积；透明材料，位于第三平面，并界定该工艺容积的底端部分，而在该承载板与该透明材料之间形成下方工艺容积；以及多个灯，在该透明材料下方形成一或多个区域。该设备提供均一的前驱物流动及混合，并同时维持较大型基板上方的均一温度，因而使生产率有相应的提高。