公开(公告)号：CN114139487A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202111241073.6

申请日：2021-10-25

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 董立松 ,  韦亚一 ,  郝芸芸

IPC: G06F30/398 ,  G06F30/392 ,  G06F8/20 ,  G06F8/71

Abstract: 本申请提供了一种版图可视化开发工具及封装、使用方法，版图可视化开发工具包括版图可视化模块以及版图处理算法模块，版图可视化模块包括版图显示模块、配置窗口模块、版图编辑模块以及图形测量模块；版图处理算法模块包括文件模块、图形模块、异常处理模块以及设计规则检查模块。本申请结合计算光刻仿真等研发的实际需要，打造出拥有版图处理算法模块和版图可视化模块的开发工具包，以支持工程师二次开发版图可视化应用。解决了目前版图可视化仿真软件基础上，用户无法根据自身需求开发独立的版图可视化应用的问题。

公开(公告)号：CN113849964A

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN202111023023.0

申请日：2021-09-01

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 郝芸芸 ,  韦亚一 ,  王云 ,  薛静 ,  叶甜春

IPC: G06F30/20 ,  G06F30/27 ,  G06N3/12 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请提供一种极紫外光刻中掩模缺陷控制方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。其中方法包括：获取极紫外光刻掩模主体图形；确定在所述掩模主体图形边缘添加冗余图形的区域；基于遗传算法在所述区域中确定所述冗余图形的添加方式；根据所述冗余图形的添加方式在所述区域中添加冗余图形。相较于现有技术，通过本方案可以快速地挑选出符合要求的一组或几组冗余图形的添加方式，能够快速对极紫外光刻中掩模缺陷进行更细微的调节及改善，节省了人力物力。

公开(公告)号：CN112765893B

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN202110110769.9

申请日：2021-01-27

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 郝芸芸 ,  叶甜春 ,  韦亚一 ,  王云 ,  薛静

IPC: G06F30/27 ,  G06N3/126 ,  G06F111/04

Abstract: 本发明公开了一种基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法、系统、设备及介质，所述掩模侧壁角控制方法包括：在掩模主体图形边缘添加冗余图形；基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式；其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度。通过引入遗传算法，整个流程可快速，高效地确定一组、或几组目标冗余图形添加方式，其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度，以实现对精细位置的侧壁角的角度的精准调节，满足光刻工程中特殊工艺对侧壁角的需求，仿真计算可以快速地挑选出比较符合要求的一组或几组冗余图形添加方式，节省人力、物力及财力。

公开(公告)号：CN112765893A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN202110110769.9

申请日：2021-01-27

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 郝芸芸 ,  叶甜春 ,  韦亚一 ,  王云 ,  薛静

IPC: G06F30/27 ,  G06N3/12 ,  G06F111/04

Abstract: 本发明公开了一种基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法、系统、设备及介质，所述掩模侧壁角控制方法包括：在掩模主体图形边缘添加冗余图形；基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式；其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度。通过引入遗传算法，整个流程可快速，高效地确定一组、或几组目标冗余图形添加方式，其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度，以实现对精细位置的侧壁角的角度的精准调节，满足光刻工程中特殊工艺对侧壁角的需求，仿真计算可以快速地挑选出比较符合要求的一组或几组冗余图形添加方式，节省人力、物力及财力。