公开(公告)号：CN115731251A

公开(公告)日：2023-03-03

申请号：CN202211521347.1

申请日：2022-11-30

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 孙图南 ,  韦亚一 ,  董立松

IPC: G06T7/11 ,  G06F16/11

Abstract: 本申请提供了一种GDS II的分割方法、装置、计算机可读存储介质和电子设备。获取GDS II文件，GDS II文件包括版图区域；根据运算需求，确定是否需要对GDS II文件中的版图区域进行分割；在需要对GDS II文件中的版图区域进行分割的情况下，将GDS II文件中的版图区域平均分割为四份，得到多个子版图区域。该方案中，通过将具有大量多边形的GDS II文件的版图区域进行分割，可以得到较小的子版图区域，这样子版图区域中的多边形数量也较少，可以对多个GDS II文件的子版图区域同时进行多线程运算，无需对单个大版图进行单线程运算，进而降低了时间成本，可以有效提升处理GDS II文件的效率。

公开(公告)号：CN114139487A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202111241073.6

申请日：2021-10-25

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 董立松 ,  韦亚一 ,  郝芸芸

IPC: G06F30/398 ,  G06F30/392 ,  G06F8/20 ,  G06F8/71

Abstract: 本申请提供了一种版图可视化开发工具及封装、使用方法，版图可视化开发工具包括版图可视化模块以及版图处理算法模块，版图可视化模块包括版图显示模块、配置窗口模块、版图编辑模块以及图形测量模块；版图处理算法模块包括文件模块、图形模块、异常处理模块以及设计规则检查模块。本申请结合计算光刻仿真等研发的实际需要，打造出拥有版图处理算法模块和版图可视化模块的开发工具包，以支持工程师二次开发版图可视化应用。解决了目前版图可视化仿真软件基础上，用户无法根据自身需求开发独立的版图可视化应用的问题。

公开(公告)号：CN113589654B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202110712768.1

申请日：2021-06-25

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 范泰安 ,  韦亚一 ,  粟雅娟 ,  董立松

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明能够提供一种用于优化光刻工艺的方法及装置、计算机存储介质。该方法包括如下步骤：获取目标光刻胶的数据，目标光刻胶的数据包括光刻胶空间数据和光刻胶成分数据；根据该光刻胶空间数据对目标光刻胶占据的空间进行分割，以确定多个单元块。每个单元块上均设置有格点；根据光刻胶成分数据确定目标光刻胶上各个格点位置处的原始状态信息，根据预设工艺参数和原始状态信息确定经过曝光后的目标光刻胶上各个格点位置处的当前状态信息；通过当前状态信息预测显影后的目标光刻胶形貌；本发明能够提前预测出显影后的光刻胶形貌，以指导和优化实际光刻工艺，并有助于对新品种或新类型光刻胶的研发，推进研发进度和降低研发成本。

公开(公告)号：CN113589654A

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN202110712768.1

申请日：2021-06-25

Applicant: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

Inventor： 范泰安 ,  韦亚一 ,  粟雅娟 ,  董立松

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明能够提供一种用于优化光刻工艺的方法及装置、计算机存储介质。该方法包括如下步骤：获取目标光刻胶的数据，目标光刻胶的数据包括光刻胶空间数据和光刻胶成分数据；根据该光刻胶空间数据对目标光刻胶占据的空间进行分割，以确定多个单元块。每个单元块上均设置有格点；根据光刻胶成分数据确定目标光刻胶上各个格点位置处的原始状态信息，根据预设工艺参数和原始状态信息确定经过曝光后的目标光刻胶上各个格点位置处的当前状态信息；通过当前状态信息预测显影后的目标光刻胶形貌；本发明能够提前预测出显影后的光刻胶形貌，以指导和优化实际光刻工艺，并有助于对新品种或新类型光刻胶的研发，推进研发进度和降低研发成本。