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公开(公告)号：CN105408426A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201480042508.6
申请日：2014-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L101/02 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F220/38 , C09B67/20 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/031
CPC classification number: G02B5/201 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F220/38 , C08L101/02 , C09B69/103 , C09B69/105 , C09B69/108 , C09B69/109 , G02B5/20 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/105 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08F220/06
Abstract: 本发明提供一种耐热性及溶剂溶解性优异且可形成色移得到抑制的图案的着色组合物、利用着色组合物的、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像元件及图像显示装置。本发明的着色组合物含有聚合物阴离子与具有阳离子结构的色素，所述聚合物阴离子具有含有低亲核性阴离子结构的重复单元；其中，所谓低亲核性阴离子结构，表示具有低于硫酸的pKa的pKa的有机酸解离而成的阴离子结构。
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公开(公告)号：CN104737277B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201380054473.3
申请日：2013-10-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/308 , H01L21/306
CPC classification number: C09K13/08 , H01L21/30608 , H01L21/31144 , H01L21/32134 , H01L21/32139
Abstract: 本发明提供一种蚀刻液、使用其的蚀刻方法及半导体元件的制造方法。本发明的蚀刻液对具有包含TiN的第1层、与包含选自3族～11族的过渡金属的至少1种金属的第2层的基板进行处理，而选择性除去第1层，且包含六氟硅酸化合物与0.05质量％以上、且小于10质量％的氧化剂。根据本发明的蚀刻液及蚀刻方法、使用其的半导体元件的制造方法，可相对于包含特定金属的第2层，而选择性且有效地除去包含TiN的第1层。另外，根据本发明，根据需要可防止点缺陷的产生，并且可实现蚀刻时的良好的面内均匀性。
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公开(公告)号：CN105377997B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201480039972.X
申请日：2014-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09B69/109 , C09B11/12 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B23/06 , C09B47/00 , C09B69/00 , C09B69/103 , C09B69/105 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/105
Abstract: 本发明提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含由该制造方法而所得的色素多聚体的着色组合物以及着色组合物的制造方法。一种色素多聚体的制造方法，其包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104737277A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380054473.3
申请日：2013-10-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/308 , H01L21/306
CPC classification number: C09K13/08 , H01L21/30608 , H01L21/31144 , H01L21/32134 , H01L21/32139
Abstract: 本发明提供一种蚀刻液，其对具有包含TiN的第1层、与包含选自3族～11族的过渡金属的至少1种金属的第2层的基板进行处理，而选择性除去第1层，且包含六氟硅酸化合物与0.05质量％以上、且小于10质量％的氧化剂。
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公开(公告)号：CN104781914B
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201380059067.6
申请日：2013-11-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/308 , H01L21/306 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/32134 , C09K13/08 , H01L21/31144
Abstract: 本发明的蚀刻方法是在对具有含有氮化钛(TiN)的第1层及含有过渡金属的第2层的基板进行处理时，选定第1层中的表面含氧率为0.1摩尔％～10摩尔％的基板，在基板的第1层应用含有氢氟酸化合物及氧化剂的蚀刻液而去除第1层。本发明还提供蚀刻液及半导体元件的制造方法。根据本发明的蚀刻方法，可在对含有TiN的第1层进行蚀刻时，实现该TiN层在蚀刻后的表面均匀化，以及金属层(第2层)在蚀刻后的表面均匀化。
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公开(公告)号：CN105408426B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201480042508.6
申请日：2014-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L101/02 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F220/38 , C09B67/20 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/031
CPC classification number: G02B5/201 , C08F12/20 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F220/38 , C08L101/02 , C09B69/103 , C09B69/105 , C09B69/108 , C09B69/109 , G02B5/20 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/105 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08F220/06
Abstract: 本发明提供一种耐热性及溶剂溶解性优异且可形成色移得到抑制的图案的着色组合物、硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像元件及图像显示装置。本发明的着色组合物含有聚合物阴离子与具有阳离子结构的色素，所述聚合物阴离子具有含有低亲核性阴离子结构的重复单元；其中，所谓低亲核性阴离子结构，表示具有低于硫酸的pKa的pKa的有机酸解离而成的阴离子结构。
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公开(公告)号：CN105377997A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201480039972.X
申请日：2014-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09B69/109 , C09B11/12 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B23/06 , C09B47/00 , C09B69/00 , C09B69/103 , C09B69/105 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/105
Abstract: 本发明提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含由该制造方法而所得的色素多聚体的着色组合物。一种色素多聚体的制造方法，其包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。
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公开(公告)号：CN104781914A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380059067.6
申请日：2013-11-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/308 , H01L21/306 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/32134 , C09K13/08 , H01L21/31144
Abstract: 本发明的蚀刻方法是在对具有含有氮化钛(TiN)的第1层及含有过渡金属的第2层的基板进行处理时，选定第1层中的表面含氧率为0.1摩尔％～10摩尔％的基板，在基板的第1层应用含有氢氟酸化合物及氧化剂的蚀刻液而去除第1层。
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