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公开(公告)号:CN100474402C
公开(公告)日:2009-04-01
申请号:CN200510078523.9
申请日:2005-06-10
Applicant: 富士电机电子技术株式会社
CPC classification number: C23C18/1893 , C23C18/1865 , C23C18/1889 , G11B5/8404
Abstract: 本发明的一个目的是提供无电镀敷方法,该方法在表面粗糙度小的玻璃基材上形成良好粘着性镀膜。还提供采用这种无电镀敷方法制成的磁性记录介质及包括这样磁性记录介质的磁性记录器件。该方法包括:除去玻璃基材表面上过量碱金属的步骤,包括将玻璃基材浸在含锂盐溶液中;腐蚀处理步骤,用含氢氟酸,氟化铵,盐酸,或它们的混合物的溶液,处理除去了过量碱金属的玻璃基材的表面;在经腐蚀处理的玻璃基材上形成粘着层步骤,将基材浸在氨基型或巯基型的硅烷偶联剂水溶液中;形成催化剂层步骤,在基材的粘着层上用氯化钯或钯形成催化剂层;无电镀敷步骤,在催化剂层上形成无电镀膜。
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公开(公告)号:CN100485785C
公开(公告)日:2009-05-06
申请号:CN200510064386.3
申请日:2005-04-15
Applicant: 富士电机电子技术株式会社
CPC classification number: G11B5/667 , G11B5/7315
Abstract: 本发明的一个目的是提供用于垂直磁记录介质的基板,该基板表现出充分的生产能力,起到作为垂直磁记录介质的软磁性衬里层的作用,并且几乎不产生噪声。本发明的另一个目的是提供使用此基板的垂直磁记录介质。该磁盘基板(10)至少包括通过一种无电镀膜方法形成于非磁性基体(1)上的软磁性底层(2)。软磁性底层(2)的热膨胀系数大于非磁性盘状基体(1)的热膨胀系数。饱和磁致伸缩常数λs满足λs≥-1×10-5的关系。
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