一种基于SSPP结构的透吸一体三维频率选择吸波体

    公开(公告)号:CN119726151A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411973787.X

    申请日:2024-12-30

    Abstract: 一种基于SSPP结构的透吸一体三维频率选择吸波体,本发明属于微波技术领域。本发明要解决现有透波、吸波一体化频率选择结构无法同时满足良好的透过性与宽吸波带的特性,且需要在吸波层上安装大量集总电阻来增加吸波带宽,增加了制造难度和总成本。透吸一体三维频率选择吸波体:由吸波体单元周期排列而成;吸波体单元由FSS结构单元和三维吸波结构单元组成;FSS结构单元由下至上依次为第一基板及金属图形层;三维吸波结构单元垂直设置于FSS结构单元上表面;三维吸波结构单元由两个第二基板沿FSS结构单元两条对角线交叉排列而成,且第二基板两侧表面均对称设置金属条形组。本发明用于基于SSPP结构的透吸一体三维频率选择吸波体。

    一种氧化物薄膜表面复合的优化方法

    公开(公告)号:CN111560602A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010287655.7

    申请日:2020-04-13

    Abstract: 一种氧化物薄膜表面复合的优化方法,涉及一种氧化物薄膜表面的优化方法。本发明是要解决传统薄膜制备方法不可避免的存在针孔、晶粒与晶粒之间存在缝隙,粗糙度比较大等特点,造成了一定程度上的湿热耐久性差能,而原子层沉积技术存在制备薄膜沉积速度低、成本高等缺点,不适应于完全采用原子层沉积制备厚度较大的薄膜的技术问题。本发明建立复合结构,通过修饰层的制备消除了结构层表面的针孔,使其表面缺陷得到补偿,化学成分更加的均一,表面势分布梯度更小,提高了膜层表面质量。本发明普适性好、设备要求低、制备简单、重复性好的优点,具有较好的推广价值。兼顾现有膜层制备技术的结构功能特性,且价格低廉,适于工业化生产。

    一种高红外开关率的钒基氧化物薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112795883B

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202011573076.5

    申请日:2020-12-24

    Abstract: 一种高红外开关率的钒基氧化物薄膜的制备方法,涉及一种高红外开关率的薄膜的制备方法。本发明是要解决现有的氧化钒薄膜无法实现85%以上中红外透过率的同时保证较高红外开关率的技术问题。本发明方法结合了磁控溅射镀膜系统和后退火处理,该方法所需设备成本较低、工艺操作简单、性质稳定,可批量生产。本发明制备的钒基氧化物薄膜具有优异的红外开关性能,光开关率可达88%以上,同时保证了中波红外光区透过率可达85%以上。此种高红外开关率钒基氧化物薄膜保证了薄膜在服役过程中优异的红外透过率和优异的光开关性能,适用于智能窗、热致相变器件,尤其是激光防护器件的研制。

    一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

    公开(公告)号:CN112281133B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202011172175.2

    申请日:2020-10-28

    Abstract: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。

    一种具有红外透明导电功能的窗口

    公开(公告)号:CN111276277B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202010091737.4

    申请日:2020-02-12

    Abstract: 一种具有红外透明导电功能的窗口,属于红外光学材料领域及电子材料领域。本发明是要解决现有的红外透明导电功能的窗口无法兼顾电磁屏蔽和高红外透过率性能的技术问题。本发明的具有红外透明导电功能的窗口是由衬底和依次生长于所述衬底上的透明导电层和红外增透层组成。本发明所述的具有红外透明导电功能的窗口在0.78μm~2.5μm波长范围内透过率不低于80%,在2.5μm~5μm波长范围内透过率不低于75%,方块电阻不大于100Ω/sq,对1GHz~18GHz电磁波的屏蔽效率大于10dB。本发明应用于制备一种具有红外透明导电功能的窗口。

    一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

    公开(公告)号:CN112281133A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202011172175.2

    申请日:2020-10-28

    Abstract: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。

    一种氧化物薄膜表面复合的优化方法

    公开(公告)号:CN111560602B

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202010287655.7

    申请日:2020-04-13

    Abstract: 一种氧化物薄膜表面复合的优化方法,涉及一种氧化物薄膜表面的优化方法。本发明是要解决传统薄膜制备方法不可避免的存在针孔、晶粒与晶粒之间存在缝隙,粗糙度比较大等特点,造成了一定程度上的湿热耐久性差能,而原子层沉积技术存在制备薄膜沉积速度低、成本高等缺点,不适应于完全采用原子层沉积制备厚度较大的薄膜的技术问题。本发明建立复合结构,通过修饰层的制备消除了结构层表面的针孔,使其表面缺陷得到补偿,化学成分更加的均一,表面势分布梯度更小,提高了膜层表面质量。本发明普适性好、设备要求低、制备简单、重复性好的优点,具有较好的推广价值。兼顾现有膜层制备技术的结构功能特性,且价格低廉,适于工业化生产。

    一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法

    公开(公告)号:CN113237842A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110449247.1

    申请日:2021-04-25

    Abstract: 一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法,涉及一种傅里叶红外光谱仪样品架。本发明是为了解决现有技术存在的出入射光线位置点变动,出射光线传播路径改变,最终可能导致测试结果不准确的问题。装置:工装底座上方滑动设置两个支撑柱,两个量角器的直线端分别固定安装在两个支撑柱上,两个测试样品支架底部分别转动连接在两个支撑柱上,两个测试样品分别插装在两个测试样品支架上。方法:步骤一、首先将工装底座平稳安装放置在测试所需的工况或者环境中;步骤二、通过旋转两个测试样品支架来调整测试斜入射角度,角度值可由量角器读出;步骤三、将两个测试样品按照对称要求放置在两个支架上;步骤四、准备完毕后,开始测试。本发明用于光路转换。

    一种埋入式电极的柔性阵列式透明压阻传感器的制备方法

    公开(公告)号:CN119637804A

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411772137.9

    申请日:2024-12-04

    Abstract: 一种埋入式电极的柔性阵列式透明压阻传感器的制备方法,本发明是要解决现有基于PDMS的压阻式传感器添加导电填料在衬底内部形成导电通路,但衬底呈黑色不透明的问题。制备方法:S1、将导电材料溶液和PDMS母液混合,将PDMS固化剂滴加于混合液中,抽真空消泡后烘烤处理,得到半固体状态的柔性导电衬底材料;S2、在透明衬底上依次沉积牺牲层和透明导电薄膜得到供体薄膜载体,将供体薄膜载体倒置在柔性导电衬底材料上,采用脉冲激光辐照牺牲层;S3、在柔性导电衬底表面添加液态PDMS预聚物,再进行烘烤固化封装。本发明柔性阵列式透明压阻传感器制备工艺简单、材料成本低、可大批量自动化制备、稳定性和使用寿命长。

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