一种高红外开关率的钒基氧化物薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN112795883B

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202011573076.5

    申请日:2020-12-24

    摘要: 一种高红外开关率的钒基氧化物薄膜的制备方法,涉及一种高红外开关率的薄膜的制备方法。本发明是要解决现有的氧化钒薄膜无法实现85%以上中红外透过率的同时保证较高红外开关率的技术问题。本发明方法结合了磁控溅射镀膜系统和后退火处理,该方法所需设备成本较低、工艺操作简单、性质稳定,可批量生产。本发明制备的钒基氧化物薄膜具有优异的红外开关性能,光开关率可达88%以上,同时保证了中波红外光区透过率可达85%以上。此种高红外开关率钒基氧化物薄膜保证了薄膜在服役过程中优异的红外透过率和优异的光开关性能,适用于智能窗、热致相变器件,尤其是激光防护器件的研制。

    一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

    公开(公告)号:CN112281133B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202011172175.2

    申请日:2020-10-28

    IPC分类号: C23C14/54

    摘要: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。

    一种具有红外透明导电功能的窗口

    公开(公告)号:CN111276277B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202010091737.4

    申请日:2020-02-12

    摘要: 一种具有红外透明导电功能的窗口,属于红外光学材料领域及电子材料领域。本发明是要解决现有的红外透明导电功能的窗口无法兼顾电磁屏蔽和高红外透过率性能的技术问题。本发明的具有红外透明导电功能的窗口是由衬底和依次生长于所述衬底上的透明导电层和红外增透层组成。本发明所述的具有红外透明导电功能的窗口在0.78μm~2.5μm波长范围内透过率不低于80%,在2.5μm~5μm波长范围内透过率不低于75%,方块电阻不大于100Ω/sq,对1GHz~18GHz电磁波的屏蔽效率大于10dB。本发明应用于制备一种具有红外透明导电功能的窗口。

    一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法

    公开(公告)号:CN112281133A

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN202011172175.2

    申请日:2020-10-28

    IPC分类号: C23C14/54

    摘要: 本发明涉及一种谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法和半球谐振子制造方法,该谐振子膜层厚度分布及均匀程度修正方法包括:获取镀膜设备和镀膜工件的三维数据;根据获取的三维数据建立镀膜工件及有效镀膜区域的三维模型,对镀膜工件待镀膜的镀膜面沿径向分布划分网格;利用有限元仿真获得不同工艺参数对应的镀膜工件即半球谐振子在镀膜表面的膜层厚度分布及均匀程度数据;在镀膜过程中,采集镀膜厚度参数,动态分析膜层的厚度分布及均匀程度,依据已获得的膜层厚度及均匀程度结果修正镀膜的工艺参数,使膜层厚度分布均匀程度不断提高。采用本发明能够快速实现半球谐振子所需的均匀镀膜,并提高实际镀膜过程中产品的质量。

    一种氧化物薄膜表面复合的优化方法

    公开(公告)号:CN111560602A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010287655.7

    申请日:2020-04-13

    摘要: 一种氧化物薄膜表面复合的优化方法,涉及一种氧化物薄膜表面的优化方法。本发明是要解决传统薄膜制备方法不可避免的存在针孔、晶粒与晶粒之间存在缝隙,粗糙度比较大等特点,造成了一定程度上的湿热耐久性差能,而原子层沉积技术存在制备薄膜沉积速度低、成本高等缺点,不适应于完全采用原子层沉积制备厚度较大的薄膜的技术问题。本发明建立复合结构,通过修饰层的制备消除了结构层表面的针孔,使其表面缺陷得到补偿,化学成分更加的均一,表面势分布梯度更小,提高了膜层表面质量。本发明普适性好、设备要求低、制备简单、重复性好的优点,具有较好的推广价值。兼顾现有膜层制备技术的结构功能特性,且价格低廉,适于工业化生产。

    一种氧化物薄膜表面复合的优化方法

    公开(公告)号:CN111560602B

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202010287655.7

    申请日:2020-04-13

    摘要: 一种氧化物薄膜表面复合的优化方法,涉及一种氧化物薄膜表面的优化方法。本发明是要解决传统薄膜制备方法不可避免的存在针孔、晶粒与晶粒之间存在缝隙,粗糙度比较大等特点,造成了一定程度上的湿热耐久性差能,而原子层沉积技术存在制备薄膜沉积速度低、成本高等缺点,不适应于完全采用原子层沉积制备厚度较大的薄膜的技术问题。本发明建立复合结构,通过修饰层的制备消除了结构层表面的针孔,使其表面缺陷得到补偿,化学成分更加的均一,表面势分布梯度更小,提高了膜层表面质量。本发明普适性好、设备要求低、制备简单、重复性好的优点,具有较好的推广价值。兼顾现有膜层制备技术的结构功能特性,且价格低廉,适于工业化生产。

    一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法

    公开(公告)号:CN113237842A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110449247.1

    申请日:2021-04-25

    摘要: 一种傅里叶红外光谱仪样品架及使用方法,涉及一种傅里叶红外光谱仪样品架。本发明是为了解决现有技术存在的出入射光线位置点变动,出射光线传播路径改变,最终可能导致测试结果不准确的问题。装置:工装底座上方滑动设置两个支撑柱,两个量角器的直线端分别固定安装在两个支撑柱上,两个测试样品支架底部分别转动连接在两个支撑柱上,两个测试样品分别插装在两个测试样品支架上。方法:步骤一、首先将工装底座平稳安装放置在测试所需的工况或者环境中;步骤二、通过旋转两个测试样品支架来调整测试斜入射角度,角度值可由量角器读出;步骤三、将两个测试样品按照对称要求放置在两个支架上;步骤四、准备完毕后,开始测试。本发明用于光路转换。

    用于制备图案化金属氧化物薄膜的材料和方法

    公开(公告)号:CN115094374A

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202210723539.4

    申请日:2022-06-23

    摘要: 用于制备图案化金属氧化物薄膜的材料和方法,本发明的目的是为了解决现有图案化技术制备薄膜的灵活性较差,难以直接改变图案的问题。本发明用于制备图案化金属氧化物薄膜的材料包括透光基体、光敏层、金属氧化物薄膜和粘合层,在透光基体表面涂覆形成光敏层,金属氧化物薄膜镀覆在光敏层上,粘合层涂覆在金属氧化物薄膜上,光敏层采用光分解材料。本发明光敏层在被激光进行辐射后,可光解或热解为气态物质,金属氧化物薄膜被气态物质推动向镀膜基底转移,在镀膜基底上形成图案化金属氧化物薄膜。本发明简便快捷的沉积图案化的金属氧化物薄膜材料到待转移区域,无需使用昂贵的光刻机设备和环境危险的化工药品。