公开(公告)号：CN110998452A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201880051683.X

申请日：2018-07-25

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： B.威利-范艾尔德 ,  F.比杰柯克 ,  K.希尔德 ,  T.格鲁纳 ,  S.舒尔特 ,  S.韦勒

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00 ,  G21K1/06

Abstract: 本发明涉及一种反射镜，特别是微光刻投射曝光系统的反射镜，其包括反射镜基板(12、32、52)。该反射镜具有：反射层堆叠体(21、41、61)，用于将照射光学有效表面(11、31、51)的工作波长的电磁辐射反射；以及至少一个压电层(16、36、56)，其布置在反射镜基板和反射层堆叠体之间，且可以通过第一电极布置和第二电极布置向该至少一个压电层施加产生局部可变形变的电场，该第一电极布置(20、40、60)位于压电层的面向反射层堆叠体的一侧，并且该第二电极布置(14、34、54)位于压电层的面向反射镜基板的一侧。根据一个方面，提供支撑层(98)，该支撑层(98)与没有支撑层的类似设计相比，伴随着施加电场来减少压电层(96)到反射镜基板(92)中的下沉，并且因此增加了压电层(96)的有效挠曲。

公开(公告)号：CN114467005A

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202080068894.1

申请日：2020-09-23

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： S.舒尔特 ,  R.弗雷曼

IPC: G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32

Abstract: 一种用于干涉确定测试物(14)的表面(12)的形状的测量设备(10)包括：用于提供输入波(42)的辐射源；多重编码衍射光学元件(60)，其被配置为通过衍射从输入波生成测试波(66)和至少一个校准波(70)，该测试波指向测试物(14)且具有形式为自由形式表面的波前，其中，校准波的波前具有非旋转对称形状(68f)，其中，穿过校准波(70)的波前的横截面沿着相互横向对准的横截面区域在各个情况下具有弯曲形状，并且其中，各种横截面区域中的弯曲形状在开口参数方面不同。此外，测量设备包括检测装置(46)，用于检测通过将参考波(40)和在与校准物(74)相互作用后的校准波叠加而形成的校准干涉图。

公开(公告)号：CN105917190B

公开(公告)日：2019-09-10

申请号：CN201480073553.8

申请日：2014-12-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： S.舒尔特 ,  F.希尔克

IPC: G01B11/24

Abstract: 一种测量球形像散光学区域(40)的方法，包含以下步骤：a)通过波前生成装置(10)产生球形像散波前作为测试波前；b)干涉地测量在所述波前生成装置(10)与所述球形像散区域(40)之间的波前差，所述球形像散表面适配于所述波前生成装置(40)，使得所述测试波前基本在竖直方向上照射在所述球形像散区域(40)中的任意点，进行多个测量，在所述多个测量中，在围绕像散半径的两个中心球形化和/或围绕球形像散区域(40)的表面法线旋转180°的多个位置处测量所述球形像散区域(40)，从而确定相应干涉图位相；以及c)通过数学重建法，建立所述波前生成装置(10)的波前和所述球形像散区域(40)的形状，因此，所述球形像散区域(40)的表面通过使用合适的处理方法来校正，步骤a)至c)被重复直到所述波前差小于限定阈值。

公开(公告)号：CN105917190A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201480073553.8

申请日：2014-12-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： S.舒尔特 ,  F.希尔克

IPC: G01B11/24

Abstract: 一种测量球形像散光学区域(40)的方法，包含以下步骤：a)通过波前生成装置(10)产生球形像散波前作为测试波前；b)干涉地测量在所述波前生成装置(10)与所述球形像散区域(40)之间的波前差，所述球形像散表面适配于所述波前生成装置(40)，使得所述测试波前基本在竖直方向上照射在所述球形像散区域(40)中的任意点，进行多个测量，在所述多个测量中，在围绕像散半径的两个中心球形化和/或围绕球形像散区域(40)的表面法线旋转180°的多个位置处测量所述球形像散区域(40)，从而确定相应干涉图位相；以及c)通过数学重建法，建立所述波前生成装置(10)的波前和所述球形像散区域(40)的形状，因此，所述球形像散区域(40)的表面通过使用合适的处理方法来校正，步骤a)至c)被重复直到所述波前差小于限定阈值。

公开(公告)号：CN102686972B

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN200980162499.3

申请日：2009-09-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： R.弗赖曼 ,  B.多尔班德 ,  S.舒尔特 ,  A.霍夫 ,  F.里彭豪森 ,  M.曼格 ,  D.纽格鲍尔 ,  H.艾斯勒 ,  A.比科

IPC: G01B9/02 ,  G01B11/24 ,  G02B26/06 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B2290/15 ,  G01M11/005 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B3/02 ,  G02B5/10

Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。

公开(公告)号：CN102686972A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN200980162499.3

申请日：2009-09-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： R.弗赖曼 ,  B.多尔班德 ,  S.舒尔特 ,  A.霍夫 ,  F.里彭豪森 ,  M.曼格 ,  D.纽格鲍尔 ,  H.艾斯勒 ,  A.比科

IPC: G01B9/02 ,  G01B11/24 ,  G02B26/06 ,  G01M11/02

CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B2290/15 ,  G01M11/005 ,  G01M11/025 ,  G01M11/0271 ,  G02B3/02 ,  G02B5/10

Abstract: 提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学表面（14）的不同区域（20），在该不同测量位置，测量该测量装置（16）关于该测试物体（12）的位置坐标，通过在每个测量位置处使用测量装置（16）干涉地测量该测量波（18）在与该光学表面（14）的各个区域（20）相互作用之后的波前而获得表面区域测量，通过基于该干涉测量装置（16）在每个测量位置处所测量的位置坐标计算地组合子表面测量而确定该光学表面（14）的实际形状。