一种大面积陶瓷靶材组件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111020509A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201911354803.6

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种大面积陶瓷靶材组件的制造方法,包括如下过程:提供制造大面积陶瓷靶材组件所需的材料,包括背板、陶瓷靶材基片、导电胶;所述陶瓷靶材基片与背板连接固定的一面为第一焊接面,与第一焊接面相对的为溅射面,背板与陶瓷靶材基片连接固定的一面为第二焊接面;将陶瓷靶材基片的第一焊接面通过导电胶固定于背板的第二焊接面上,陶瓷靶材基片按环状跑道型进行拼接,相邻陶瓷靶材基片之间预留有缝隙;位于环状跑道侧边的陶瓷靶材基片和位于环状跑道端部的陶瓷靶材之间形成内部封闭空白区域,位于环状跑道两端的陶瓷靶材基片的侧边设置倒角。本发明提供的陶瓷靶材组件的制造方法,简单易行,便于加工,避免了靶材碎裂、脱靶等问题。

    一种磁控溅射镀膜装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116641034A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310569177.2

    申请日:2023-05-19

    Abstract: 本发明公开了一种磁控溅射镀膜装置,包括镀膜仓、第一驱动机构、第二驱动机构以及设于镀膜仓内的基框架和挂样框架;所述基框架包括转动板以及与转动板贯穿连接的基杆;所述挂样框架包括限位框和多根转动杆,所述转动杆的底部与转动板可拆卸式转动连接,所述转动杆的顶部与限位框转动连接,所述限位框与基杆可拆卸式连接,所述转动杆上安装有挂样组件;所述第一驱动机构用于驱动基框架带动挂样框架旋转,所述第二驱动机构用于驱动转动杆自转。本发明提供的磁控溅射镀膜装置,样品取放操作方便,有助于提高生产效率,同时,能够提高样品表面磁控溅射镀薄的均匀性。

    一种旋转溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN110983266A

    公开(公告)日:2020-04-10

    申请号:CN201911353892.2

    申请日:2019-12-25

    Inventor: 周其刚

    Abstract: 本发明公开了一种旋转溅射靶材及其制备方法,包括如下过程:将镍铜锑三种金属熔炼铸锭,然后剥皮检测探伤,将合格铸锭先热锻再冷锻为原棒;将棒料再剥皮车光,然后穿孔、扩孔,将扩好孔的棒材通过挤型机挤压成胚管;对挤型好的胚管进行若干次拉拔操作,最后通过真空淬火,得到旋转溅射靶材。本发明提供的旋转溅射靶材及其制备方法,简化工艺流程,开发出的旋转型镍铜锑靶材具有高纯净度,晶粒度也比平面靶材更小更均匀,溅射时靶材利用率可达85%,进而减少电子元器件镀膜过程中相同产量产出下换靶的时间和次数,为电子元器件厂家大幅降低原料成本,节约换靶和保养时间,提高工作效率。

    一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN110484885A

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201910869342.X

    申请日:2019-09-12

    Abstract: 本发明公开了一种含微量元素的大管径Ni-Cr旋转靶材及其制备方法,包括按质量百分比计的如下原料组分:C 0.01~0.05%,B 0.02~0.08%,Zr 0.01~0.06%,Mg 0.05~0.1%,Cr 7~44%以及余量Ni和不可避免的杂质。制备步骤依次采用真空熔炼、热锻、机加工、热挤压、酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。本发明在Ni-Cr的基础上,添加微量的元素C、B、Zr、Mg进行成分优化,使合金在凝固后期能够有效补缩,减少缺陷的形成面积,降低氧、硫、氢、氮等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力,细化晶粒,从而提高成材率;通过制作整体旋转靶或绑定旋转靶,其利用率可达到70%-80%,既能满足更多的市场需求和特殊需求,又能提高材料的利用率,降低成本。

    一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN110468382B

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201910869200.3

    申请日:2019-09-12

    Abstract: 本发明公开了一种含微量元素的大管径Ni‑V旋转靶材及其制备方法,旋转靶材包括按质量百分比计的如下组分:C 0.01~0.05%,B 0.01~0.08%,Ti 0.001~0.006%,Mg 0.01~0.05%,V 6~8%以及余量Ni和不可避免的杂质。制备步骤依次采用真空熔炼、热锻、机加工、热挤压、酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。本发明在Ni‑V的基础上,添加微量的元素C、B、Ti、Mg进行成分优化,降低氧、硫等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力、强度,并细化晶粒,从而提高成材率;通过优选热加工工艺参数,降低了废品率。

    一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN110468382A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201910869200.3

    申请日:2019-09-12

    Abstract: 本发明公开了一种含微量元素的大管径Ni-V旋转靶材及其制备方法,旋转靶材包括按质量百分比计的如下组分:C 0.01~0.05%,B 0.01~0.08%,Ti 0.001~0.006%,Mg 0.01~0.05%,V 6~8%以及余量Ni和不可避免的杂质。制备步骤依次采用真空熔炼、热锻、机加工、热挤压、酸洗处理、固溶处理、冷轧或镗孔、退火处理、机加工或绑定。本发明在Ni-V的基础上,添加微量的元素C、B、Ti、Mg进行成分优化,降低氧、硫等含量,且能抑制裂纹的萌生,提高靶材的晶界结合力、强度,并细化晶粒,从而提高成材率;通过优选热加工工艺参数,降低了废品率。

    一种超声波涂铟探头及探头支架

    公开(公告)号:CN211292740U

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN201922389364.4

    申请日:2019-12-27

    Inventor: 周其刚 李宪民

    Abstract: 本实用新型公开了超声波探头技术领域的一种超声波涂铟探头及探头支架,旨在解决现有技术中超声波涂铟探头在管材表面操作时有效工作面积小,工作效率低的技术问题,所述探头一端为连接端,另一端为工作部,所述工作部的侧面设有对称布置的第一弧面,所述工作部的端面设有与管材外表面相匹配的第二弧面。本实用新型通过将工作部设计成与管材表面相匹配的弧面形状,使超声波涂铟探头与管材之间由线接触变为面接触,增大了有效接触面积,减轻了操作难度,提高了工作效率。

    一种靶材的铸造模具
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211276448U

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN201922395059.6

    申请日:2019-12-27

    Inventor: 周其刚

    Abstract: 本实用新型公开了一种靶材的铸造模具,包括底座,底座上表面的中心位置设有下模套,下模套内设有第一螺纹杆,第一螺纹杆两端的螺纹方向相反,第一螺纹杆通过第一电机驱动,第一螺纹杆通过第一螺纹块对称连接有第一下模和第二下模,第一下模和第二下模靠近下模套的一侧分别通过限位弹簧连接于下模套的内壁,下模套上方设有上模,上模的顶端设有进料管,上模的一侧设有进液管,上模的另一侧设有出液管,进液管和出液管之间通过循环管连通,上模的两侧分别通过支撑杆连接有第二螺纹块,第二螺纹块螺纹连接于第二螺纹杆,第二螺纹杆设于L型支撑板和底座之间并通过第二电机驱动。本实用新型通过降温工序,使靶材产品更快的被取出,节省等待时间。

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