一种垂直腔面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119542920A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411714197.5

    申请日:2024-11-27

    Abstract: 本申请提供一种垂直腔面发射激光器及其制备方法,涉及半导体激光器技术领域。该垂直腔面发射激光器包括:衬底和设置在衬底上的第一子N型DBR层,第一子N型DBR层背离衬底的表面划分有多个区域,每个区域上均层叠设置第二子N型DBR层、有源层和P型DBR层,第二子N型DBR层的表面的外轮廓位于第二子N型DBR层所在的区域的外轮廓之内,有源层的表面的外轮廓和P型DBR层的表面的外轮廓分别不超出第二子N型DBR层表面的外轮廓。该垂直腔面发射激光器相当于在一片衬底上同时形成了多个子垂直腔面发射激光器,每个子垂直腔面发射激光器均能够释放出一种波段的激光,因此,该垂直腔面发射激光器能够释放出多种波段的激光,且成本较低。

    一种垂直腔面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119627620A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411728750.0

    申请日:2024-11-28

    Abstract: 本申请提供一种垂直腔面发射激光器及其制备方法,涉及半导体激光器技术领域。该垂直腔面发射激光器包括:衬底、沿预设方向依次层叠设置在衬底上的N型DBR层、有源层、P型DBR层和出光层,P型DBR层包括多对沿预设方向层叠设置的第一介质层和第二介质层,部分第一介质层和第二介质层之间设有氧化层,氧化层上设有氧化通孔,氧化通孔被第一介质层或第二介质层填充,氧化层的数量为多层,多层氧化层上的氧化通孔位置对应。该垂直腔面发射激光器具有良好的出光质量,可以大幅降低其所在器件的误码率,提升器件的性能。

    一种垂直腔面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN117913651A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311664690.6

    申请日:2023-12-04

    Abstract: 本发明公开一种垂直腔面发射激光器及其制备方法,涉及激光器技术领域,该垂直腔面发射激光器包括衬底以及依次层叠设置于衬底上的N型DBR层、MQW层、氧化层和P型DBR层,P型DBR层上划分有出光区域和电极区域,在出光区域上依次层叠设置有P型欧姆接触层和透明导电层、在电极区域上设置有透明导电层。该垂直腔面发射激光器及其制备方法能够改善现有技术中大孔径的VCSEL存在的电流分布不均匀的问题,还能够实现稳定的单模输出,从而使得出射的光束能够形成理想的高斯光束。

    一种垂直腔面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN117791304A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311656366.X

    申请日:2023-12-04

    Abstract: 本发明公开一种垂直腔面发射激光器及其制备方法,涉及激光器技术领域,该垂直腔面发射激光器包括衬底、以及依次层叠设置于衬底上的N型分布式布拉格反射镜层、有源层、具有电流限制孔的氧化层、P型分布式布拉格反射镜层和透明导电层。该垂直腔面发射激光器及其制备方法能够改善现有技术中大孔径的VCSEL存在的电流分布不均匀的问题,还能够实现稳定的单模输出,从而使得出射的光束能够形成理想的高斯光束。

    一种光电探测器及其制备方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119836048A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202411890312.4

    申请日:2024-12-20

    Abstract: 本申请公开了一种光电探测器及其制备方法,涉及半导体器件技术领域,本申请的光电探测器,包括衬底以及依次设置于衬底上的外延层和电极层,电极层具有接收区域,外延层位于接收区域内的部分上凸形成凸部,以使接收区域的上表面为向外凸出的凸面,接收区域用于接收光束,光束穿透电极层激发外延层形成电信号。本申请提供的光电探测器及其制备方法,能够减小光电探测器接收面占用的平面面积,提高单位面积的产能。

    一种曝光设备及其曝光方法、装置、可读存储介质

    公开(公告)号:CN119322431A

    公开(公告)日:2025-01-17

    申请号:CN202411728532.7

    申请日:2024-11-28

    Abstract: 本申请公开一种曝光设备及其曝光方法、装置、可读存储介质,涉及半导体技术领域,该曝光方法应用于所述曝光设备中的控制单元,所述曝光设备还包括:多个光源,所述控制单元与多个所述光源连接;所述曝光方法包括:将曝光区域划分为多个子区域;分别获取每个所述子区域的目标光强值;根据每个所述子区域的目标光强值计算与其对应的所述光源的理论光强值;启动多个所述光源按照其对应的所述理论光强值对所述曝光区域进行曝光。该曝光方法能够有效地提高曝光工艺的均匀性,从而解决曝光机的曝光均匀性差的问题。

    一种垂直腔面发射激光器
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221651959U

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202323302818.2

    申请日:2023-12-04

    Abstract: 本实用新型公开一种垂直腔面发射激光器,涉及激光器技术领域,该垂直腔面发射激光器包括衬底、以及依次层叠设置于衬底上的N型分布式布拉格反射镜层、有源层、具有电流限制孔的氧化层、P型分布式布拉格反射镜层和透明导电层。该垂直腔面发射激光器能够改善现有技术中大孔径的VCSEL存在的电流分布不均匀的问题,还能够实现稳定的单模输出,从而使得出射的光束能够形成理想的高斯光束。

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