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公开(公告)号：CN119322431A
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202411728532.7
申请日：2024-11-28
Applicant: 深圳市嘉敏利光电有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请公开一种曝光设备及其曝光方法、装置、可读存储介质，涉及半导体技术领域，该曝光方法应用于所述曝光设备中的控制单元，所述曝光设备还包括：多个光源，所述控制单元与多个所述光源连接；所述曝光方法包括：将曝光区域划分为多个子区域；分别获取每个所述子区域的目标光强值；根据每个所述子区域的目标光强值计算与其对应的所述光源的理论光强值；启动多个所述光源按照其对应的所述理论光强值对所述曝光区域进行曝光。该曝光方法能够有效地提高曝光工艺的均匀性，从而解决曝光机的曝光均匀性差的问题。
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