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公开(公告)号:CN114454095A
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:CN202210055038.3
申请日:2022-01-18
Applicant: 北京烁科精微电子装备有限公司
IPC: B24B53/14
Abstract: 本发明提供的一种用于抛光垫的修整装置,属于抛光技术领域,包括:基座,基座上具有向外伸出的连接杆;修整辊,通过安装架连接在连接杆上,修整辊可轴向转动的设于安装架上;修整辊具有用于修整抛光垫的工作段,该工作段的长度不小于抛光垫的半径;第一驱动件,设于所述安装架上,用于驱动所述修整辊转动。本发明的修整装置在修整过程中,第一驱动件驱动修整辊进行自转,修整辊在待修整区域内的线速度保持恒定、且在待修整区域的各个部位停留的时间也一致,使抛光垫各处的修整量均匀。另外,修整辊与抛光垫为线接触,易控制修整辊与抛光垫压紧,且易使抛光垫各部位的受力更加均匀,进一步使抛光垫各处的修整量均匀一致。
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公开(公告)号:CN114473848A
公开(公告)日:2022-05-13
申请号:CN202210099458.1
申请日:2022-01-27
Applicant: 北京烁科精微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供的一种具有冷却功能的抛光装置,包括:抛光盘具有上下贴合连接的第一盘体和第二盘体,第二盘体上开设有用于传感器穿过的避让孔;旋转轴连接在第二盘体上,用于驱动抛光盘旋转;冷却回路呈螺旋状盘布在第一盘体与第二盘体之间,冷却回路中适于流通冷却液;冷却回路的进/回液口均连通有软管,该软管穿过旋转轴的穿轴孔后、适于与冷却液箱连通;冷却回路对避让孔进行绕包,冷却液先流经绕包在避让孔周向的冷却回路;驱动组件至少部分设于旋转轴上,用于驱动旋转轴转动。本发明的冷却回路能够对抛光盘进行循环冷却,降低因热影响抛光液的化学反应;避让孔被冷却回路绕包,能够对传感器进行充分冷却,减小因安装传感器导致的散热不均问题。
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公开(公告)号:CN115132623A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202210698674.8
申请日:2022-06-20
Applicant: 北京烁科精微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/463 , B24B27/00 , B24B41/00
Abstract: 本发明提供的一种晶圆研磨抛光装置及传输方法,属于晶圆制造技术领域,晶圆研磨抛光装置包括:依次设置的抛光区、清洗区和储存区;所述抛光区具有对称设置的第一抛光区和第二抛光区;所述清洗区具有对称设置的第一清洗区和第二清洗区;本发明的晶圆研磨抛光装置,通过抛光区和清洁区的对称设置,同时零部件具有100%替换性,既可以单侧工作,亦可以双侧共同工作,大大提高了设备的稳定性和可靠性;进一步的,设置结构合理,传输方便,提高了晶圆的流转效率,提高了抛光研磨装置的产能,进而也提高了晶圆产品的产率。
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