一种压强调控晶体生长反应釜

    公开(公告)号:CN106367804B

    公开(公告)日:2019-01-15

    申请号:CN201610963655.8

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种压强调控晶体生长反应釜,包括釜体,釜体内设有晶体生长室,釜体外设有加热装置,釜体内填充有液体镓源,所述釜体内还设有压强调节室,晶体生长室底面设有隔板,该隔板上设有连接孔,该晶体生长室通过连接孔与压强调节室连通,压强调节室上设有增压阀和减压阀,隔板上设有朝向晶体生长室凸出的衔接管口,连接孔设置在该衔接管口侧壁。本发明通过细微调整两个晶体生长室和压强调节室之间压强的差异,可以有效地实现反应釜内液体镓源的可控流动。

Patent Agency Ranking