一种场发射阴极及其制造方法和应用

    公开(公告)号:CN1349240A

    公开(公告)日:2002-05-15

    申请号:CN01140097.8

    申请日:2001-11-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种场发射阴极及其制造方法和应用,属于纳米技术领域和平面场发射阴极技术领域。本发明的场发射阴极是金属纳米线阵列,是在金属平面电极基底上生长与基底相同金属的纳米线阵列;基底厚度为1μm~0.5mm,纳米线直径为20~200nm,长度为100~500nm。制造步骤包括:(1)按照显示器件尺寸要求选用纳米孔模板;(2)在所选纳米孔模板的一面蒸发-电镀制造金属薄膜电极;(3)在纳米孔模板的纳米孔中电化学生长金属纳米线阵列;(4)清洗烘干后溶去部分或全部模板,露出金属纳米线。本发明的场发射阴应用于阴极射线管和平板显示器。本发明的场发射阴极启始场强低,电流密度大,制备简单,成本低。

    金属纳米粒子-半导体介质复合薄膜及制法和全光克尔开关

    公开(公告)号:CN1403851A

    公开(公告)日:2003-03-19

    申请号:CN02146377.8

    申请日:2002-10-30

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种金属纳米粒子-半导体介质复合薄膜,该复合薄膜既有大的三阶光学非线性系数又具有极快响应速度。该复合薄膜沉积在透明基底的一侧,基质为厚度在100~200nm之间的碱金属氧化物或碱土金属氧化物等半导体介质薄膜,其中埋藏有均匀分布的直径为5~20nm的贵金属纳米粒子。该复合薄膜制备方法为:高真空条件下在透明基底的一侧沉积碱金属或碱土金属薄膜,至白光透过率下降至30%时止;氧化金属薄膜至白光透过率基本恢复,得到半导体介质薄膜;在半导体介质薄膜表面沉积贵金属薄膜;再依次进行真空中120℃半小时以上和大气中100℃一小时以上的退火处理。本发明还提供了采用该复合薄膜为克尔介质的全光克尔开关。

    金属纳米粒子-半导体介质复合薄膜及制法和全光克尔开关

    公开(公告)号:CN1182423C

    公开(公告)日:2004-12-29

    申请号:CN02146377.8

    申请日:2002-10-30

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种金属纳米粒子-半导体介质复合薄膜,该薄膜具有大的三阶光学非线性系数和极快响应速度。该复合薄膜沉积在透明基底的一侧,基质为厚度在100~200nm之间的碱金属氧化物或碱土金属氧化物半导体介质薄膜,其中埋藏有均匀分布的直径为5~20nm的贵金属纳米粒子。其制备方法为:高真空条件下在透明基底的一侧沉积碱金属或碱土金属薄膜,至白光透过率下降至30%时止;氧化金属薄膜至白光透过率基本恢复,得到半导体介质薄膜;在半导体介质薄膜表面沉积贵金属薄膜;再依次进行真空中120℃半小时以上和大气中100℃一小时以上的退火处理。本发明还提供了采用该复合薄膜为克尔介质的全光克尔开关。

    一种场发射阴极及其制造方法和应用

    公开(公告)号:CN1155980C

    公开(公告)日:2004-06-30

    申请号:CN01140097.8

    申请日:2001-11-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种场发射阴极及其制造方法和应用,属于纳米技术领域和平面场发射阴极技术领域。本发明的场发射阴极是金属纳米线阵列,是在金属薄膜电极基底上生长与基底相同金属的纳米线阵列;基底厚度为1μm~0.5mm,纳米线直径为20~200nm,长度为100~500nm。制造步骤包括:(1)按照显示器件尺寸要求选用纳米孔模板;(2)在所选纳米孔模板的一面蒸发-电镀制造金属薄膜电极;(3)在纳米孔模板的纳米孔中电化学生长金属纳米线阵列;(4)清洗烘干后溶去部分或全部模板,露出金属纳米线。本发明的场发射阴极应用于阴极射线管和平板显示器。本发明的场发射阴极启始场强低,电流密度大,制备简单,成本低。

    弹道电子发射源及其制备方法

    公开(公告)号:CN1193397C

    公开(公告)日:2005-03-16

    申请号:CN01140098.6

    申请日:2001-11-27

    Applicant: 北京大学

    CPC classification number: B82Y10/00 H01J1/3044 H01J9/02 H01J2201/30469

    Abstract: 本发明涉及一种弹道电子发射源及其制备方法,包括电导体丝,单壁碳纳米管,电导体丝前端为针尖形;单壁碳纳米管直径为1-2纳米,长度为10~100纳米,将短单壁碳纳米管用物理的或化学方法组装在电导体丝针尖前端,在真空中经加热或电子束轰击处理,在电导体丝与碳纳米管交接处形成过渡区的碳化物。由于碳纳米管具有很高的强度和很好的柔性,所以本弹道电子发射源是一稳定结构的新型电子源,具有超强、高亮度、相干性和偏振性。可以应用在彩色全息电视电子源;复眼式平板显示屏;电子显微分析仪;偏振电子束;自由电子激光器;超亮光源;大气中的X光源;高能电子束手术刀等多个领域。

    内场助金属超微粒子/介质复合光电发射薄膜

    公开(公告)号:CN1103500C

    公开(公告)日:2003-03-19

    申请号:CN99118962.0

    申请日:1999-09-03

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 一种可以对近红外波段弱超快光信号进行检测的内场助光电发射薄膜结构,属于半导体器件领域。此种光电发射薄膜结构的特点是在金属超微粒子/介质复合薄膜表面沉积一层一定厚度的银薄膜电极,从而通过加入内场的方法达到提高该种光电发射薄膜量子产额的目的。本发明的内场助金属超微粒子/介质复合光电发射薄膜可用于近红外光电检测、超快光电信号转换等方面。

Patent Agency Ranking