薄膜晶体管、薄膜晶体管阵列以及薄膜晶体管的制造方法

    公开(公告)号:CN115917759A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202180041186.3

    申请日:2021-07-05

    Inventor: 池田典昭

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有良好的元件特性且具有高挠性的薄膜晶体管、薄膜晶体管阵列以及薄膜晶体管的制造方法。因此,本发明的薄膜晶体管具有绝缘性的基板、栅极电极、第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层、半导体层、绝缘性的保护层、源极电极、以及漏极电极,第一栅极绝缘层由包含有机材料的绝缘材料形成,第二栅极绝缘层由无机绝缘材料形成,第二栅极绝缘层的膜厚比第一栅极绝缘层的膜厚薄,第二栅极绝缘层仅形成在与半导体层或保护层重叠的范围内。

    薄膜晶体管阵列及图像显示装置

    公开(公告)号:CN105580120B

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201480053246.3

    申请日:2014-09-11

    Abstract: 本发明提供在层间绝缘膜的形成中不使用光刻法、层间绝缘膜中缺陷少的薄膜晶体管阵列。薄膜晶体管阵列至少具备绝缘基板(10)、栅电极(11)、栅极绝缘膜(12)、源电极(13B)、漏电极(14)、半导体层(15)、覆盖半导体层(15)的保护层(16)、像素电极(18)、以及形成在漏电极(14)与像素电极(18)之间的层间绝缘膜(17)。层间绝缘膜(17)是有机膜或有机与无机的混合膜,层间绝缘膜(17)在形成有漏电极(14)的位置的一部分具有通孔(40)以使像素电极(18)连接于漏电极(14),漏电极(14)具有位于通孔(40)内且在电极材料上形成有开口的开口部,在通孔(40)内的漏电极(14)上存在硫醇基或二硫化物基。

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