用于定位载体上器件的装置和方法

    公开(公告)号:CN100403510C

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200610000235.6

    申请日:2006-01-06

    IPC分类号: H01L21/68

    CPC分类号: G01R1/045 Y10T29/41

    摘要: 本发明公开了一种用于定位放置于载体上的多个半导体器件的装置和方法。定位引导体,工作时其相邻于每个器件设置,并被布置成和每个半导体器件的期望定位相一致。对于定位而言,该半导体器件由定位设备所固定,其包含有多个固定器,每个固定器被设置来产生力以固定半导体器件;驱动机构也被提供来有效移动该定位设备和固定器,以抵靠于该定位引导体偏置该半导体器件,而定向该半导体器件直到它们和所述的定位引导体对齐定位。

    衬底定位的方法和装置

    公开(公告)号:CN1296984C

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200410046053.3

    申请日:2004-06-03

    IPC分类号: H01L21/68 H01L21/00

    CPC分类号: B23K3/0607 B23K2101/42

    摘要: 本发明提供了一种用于定位衬底的装置和方法。所述的装置包括:一个拾球头,用于在拾球过程中拾取多个焊球并将它们放置在衬底上;一个图像系统,用于观察和获得衬底的位置信息;此外,一个用于安装图像系统的支架,这种图像系统的操作是与拾球头的移动相分离的;驱动装置对所述的通过图像系统观察到的位置信息做出反应,从而至少定位衬底和用于将焊球放置到衬底上的拾球头。

    用于布置器件进行处理的装置和方法

    公开(公告)号:CN1983549B

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN200610161193.4

    申请日:2006-12-11

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 本发明提供一种布置来处理半导体器件的装置,该半导体器件的表面上具有表面元件,该装置包括:器件支撑体,其包含有一组用于和半导体器件的表面相接触的凸伸部,以在一平面上支撑半导体器件,该凸伸部被布置和定位以便于它们避免和表面上的表面元件相接触;为了握紧支撑于该平面上的半导体器件,夹持设备,其具有第一组夹具和第二组夹具,该第一组夹具被配置来沿着第一轴线握紧半导体器件,该第二组夹具被配置来沿着垂直于该第一轴线的第二轴线握紧半导体器件。

    用于布置器件进行处理的装置和方法

    公开(公告)号:CN1983549A

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200610161193.4

    申请日:2006-12-11

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 本发明提供一种布置来处理半导体器件的装置,该半导体器件的表面上具有表面元件,该装置包括:器件支撑体,其包含有一组用于和半导体器件的表面相接触的凸伸部,以在一平面上支撑半导体器件,该凸伸部被布置和定位以便于它们避免和表面上的表面元件相接触;为了握紧支撑于该平面上的半导体器件,夹持设备,其具有第一组夹具和第二组夹具,该第一组夹具被配置来沿着第一轴线握紧半导体器件,该第二组夹具被配置来沿着垂直于该第一轴线的第二轴线握紧半导体器件。

    衬底定位的方法和装置

    公开(公告)号:CN1574273A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410046053.3

    申请日:2004-06-03

    IPC分类号: H01L21/68 H01L21/00

    CPC分类号: B23K3/0607 B23K2101/42

    摘要: 本发明提供了一种用于定位衬底的装置和方法。所述的装置包括:一个拾球头,用于在拾球过程中拾取多个焊球并将它们放置在衬底上;一个图像系统,用于观察和获得衬底的位置信息;此外,一个用于安装图像系统的支架,这种图像系统的操作是与拾球头的移动相分离的;驱动装置对所述的通过图像系统观察到的位置信息做出反应,从而至少定位衬底和用于将焊球放置到衬底上的拾球头。

    清洗电子元件的装置和方法

    公开(公告)号:CN1520938A

    公开(公告)日:2004-08-18

    申请号:CN200310117118.4

    申请日:2003-12-03

    IPC分类号: B08B3/12

    摘要: 本发明提供了一种清洗大量电子元件的装置和方法,提供一容置有清洗液体的槽体;和安装有一超声波共振器,其与清洗液体联络以向其提供超声波能量;位于清洗液体上表面上方的支撑平台支撑该电子元件,以在使用中该电子元件和清洗液体的所述上表面相接触。而且清洗液体供应系统,被配置来产生持续的清洗液体流进入该槽体,以清洗和清洗液体的所述上表面相接触的电子元件。