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公开(公告)号:CN110551971A
公开(公告)日:2019-12-10
申请号:CN201810558151.7
申请日:2018-06-01
Applicant: 京畿大学校产学协力团 , 丰元精密株式会社
Abstract: 本发明涉及用于制造有机发光二极管面板的精细金属掩模,提供如下的精细金属掩模,即,在掩模基材的表面赋予基于纳米屏蔽层的超疏液特性,以减少有机物的附着,并易于清洗蒸镀的有机物。本发明的精细金属掩模可包括:掩模基材;以及纳米屏蔽层,在上述掩模基材的表面,通过在包括蒸镀面的区域涂敷超疏液物质来形成。并且,本发明的精细金属掩模中,掩模基材在表面中的包括蒸镀面的区域中形成有凹凸图案。
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公开(公告)号:CN116762492A
公开(公告)日:2023-09-15
申请号:CN202280009075.9
申请日:2022-01-19
Applicant: 丰元精密株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法,更详细地,提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:对准基准部,形成有至少两个对准基准点,所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置;以及摄像装置,安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置,其中,所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠,并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠,所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。
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公开(公告)号:CN119535882A
公开(公告)日:2025-02-28
申请号:CN202411090492.8
申请日:2024-08-09
Applicant: 丰元精密株式会社
Abstract: 本发明涉及一种薄膜光掩模以及薄膜光掩膜的制造方法。一种薄膜光掩模,作为在用于制造构成开口金属掩膜的掩膜条的曝光工程中使用的薄膜光掩膜,包括:第一薄膜,配备有沿着宽度方向排列的一个以上的第一透过部,所述第一薄膜的长度方向上的长度大于宽度方向上的长度;以及第二薄膜,配备有与所述第一透过部对应的第二透过部;通过在所述第一薄膜的长度方向的两端中的至少一个上对所述第二薄膜进行接合,从而可以将所述第一透过部与所述第二透过部连续连接并借此形成与所述掩膜条的形状对应的图案。
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公开(公告)号:CN118077332A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202280067349.X
申请日:2022-08-17
Applicant: 丰元精密株式会社
Abstract: 精细金属掩模板的一实施例可包括:基片;掩模片,形成在基片,具有形成有多个单元的图案区域;以及切割区域,形成在基片与掩模片之间,切割区域包括:切割线,形成多个;以及桥部,配置在多个切割线中每个切割线的两端,形成多个并相互隔开,用于连接基片与掩模片。
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公开(公告)号:CN116724683A
公开(公告)日:2023-09-08
申请号:CN202180089361.6
申请日:2021-11-05
Applicant: 丰元精密株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于大面积显示器的精细金属掩模及其制造方法,更具体而言,上述精细金属掩模包括形成有用于沉积光学元件的通孔图案的有效部以及形成在上述有效部的两端以在光学元件的沉积过程中用作支撑体的夹持部,上述精细金属掩模的制造方法包括:在用于制造精细金属掩模的金属面板的一个区域上涂覆光致抗蚀剂的步骤;在涂覆有上述光致抗蚀剂的金属面板上堆叠形成有图案的光掩模的步骤;对堆叠有上述光掩模的光致抗蚀剂区域中的中心部区域进行曝光的步骤;及通过激光加工成型从上述中心部区域向两端部延伸的区域的步骤;上述中心部区域为精细金属掩模的有效部,通过激光加工成型的两端部延伸区域为精细金属掩模的夹持部。
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公开(公告)号:CN116710848A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202280009076.3
申请日:2022-01-19
Applicant: 丰元精密株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法,更详细地提供一种用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置,其特征在于,包括:光掩模安装支架;光掩模吸附部,形成在所述光掩模安装支架的边缘上;对准基准部,形成有至少两个对准基准点,所述对准基准点位于与对准标记重叠的位置;以及摄像装置,安装在能够拍摄所述对准基准部与对准标记的重叠状态的位置,所述对准基准点中的至少一个与形成在多个光掩模中的第一光掩模上的对准标记重叠,并且剩余的对准基准点与形成在第二光掩模上的对准标记重叠,所述第二光掩模与所述第一光掩模相邻地对准。
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