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公开(公告)号:CN114402433A
公开(公告)日:2022-04-26
申请号:CN202080064983.9
申请日:2020-09-18
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: H01L23/495 , H01L23/498
Abstract: 提供一种能够提高部件的安装部的强度的布线基板。进而,提供可靠性高的电子装置以及电子模块。布线基板具备:具有第1面的基体和位于第1面的导体,导体具有相对于第1面的法线方向相互向相同的倾斜方向突出的多个第1凸部位于表面的区域。电子装置以及电子模块具备上述的布线基板和搭载于布线基板的电子部件。
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公开(公告)号:CN113711348A
公开(公告)日:2021-11-26
申请号:CN202080030110.6
申请日:2020-04-22
Applicant: 京瓷株式会社
Abstract: 提供一种容易以高精度使多个电子部件的相对角度对准,并且,容易以高的姿势精度将多个电子部件安装于模块基板的布线基板、具有上述的布线基板的电子装置以及电子模块。布线基板具备具有绝缘性的基体、和位于该基体上的布线导体。所述基体具有第1面、位于该第1面的相反侧的第4面、和位于所述第1面与所述第4面之间的侧面的第2面以及第3面,所述第1面、所述第2面以及所述第3面分别为电子部件的搭载面,所述第4面为安装面。电子装置具备所述布线基板、和分别搭载于所述第1面、所述第2面以及所述第3面的电子部件。
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公开(公告)号:CN115917060A
公开(公告)日:2023-04-04
申请号:CN202180045280.6
申请日:2021-06-29
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: C30B29/36 , C23C14/06 , C30B23/06 , H01L21/205
Abstract: SiC晶体的制造方法是基于升华再结晶法的制造方法,包括:准备在内表面具有支承部的坩埚的工序;将原料放入坩埚的工序;将在下表面具有SiC晶体生长的区域的应力缓冲片设置于支承部的工序;将在与应力缓冲片对置的面具有朝向应力缓冲片中的SiC晶体生长的区域突出的突起部的盖设置于坩埚的工序;和使放入坩埚的原料升华,使SiC晶体在应力缓冲片的下表面生长的工序。
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公开(公告)号:CN107615115B
公开(公告)日:2020-05-15
申请号:CN201680031522.5
申请日:2016-06-22
Applicant: 京瓷株式会社
Abstract: 一种近红外线截止滤波器,具备:吸收膜,吸收所入射的光当中的近红外线;反射膜,在上表面配置了吸收膜,且对透过了吸收膜的光当中的近红外线进行反射;以及透明基板,在上表面配置了反射膜以及吸收膜,且使透过了反射膜的光透过,吸收膜包含聚合物和分散于聚合物中的有机色素,其中,该聚合物由具有疏水基的重复单元以及具有羟基的重复单元构成,该有机色素具有羟基并且吸收近红外线,该聚合物中的具有羟基的重复单元是乙烯醇。
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