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公开(公告)号:CN115917060A
公开(公告)日:2023-04-04
申请号:CN202180045280.6
申请日:2021-06-29
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: C30B29/36 , C23C14/06 , C30B23/06 , H01L21/205
Abstract: SiC晶体的制造方法是基于升华再结晶法的制造方法,包括:准备在内表面具有支承部的坩埚的工序;将原料放入坩埚的工序;将在下表面具有SiC晶体生长的区域的应力缓冲片设置于支承部的工序;将在与应力缓冲片对置的面具有朝向应力缓冲片中的SiC晶体生长的区域突出的突起部的盖设置于坩埚的工序;和使放入坩埚的原料升华,使SiC晶体在应力缓冲片的下表面生长的工序。
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