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公开(公告)号:CN103289058B
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:CN201310223543.5
申请日:2013-06-06
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: C08G59/17 , C08G59/16 , C09D163/10 , C09D7/12 , C08J3/24
CPC分类号: C09D163/10 , C08G59/1461 , C08G59/1466 , C08G59/1494 , C08G59/308 , C08K3/30 , C08K3/34 , C08K3/36 , C08K2003/3045 , C09D163/00
摘要: 本发明公开了一种氟改性的环氧丙烯酸树脂、紫外光固化光油及其制备方法、以及将该光油涂布于基材的方法。该氟改性的环氧丙烯酸树脂由以下步骤制得:将一元不饱和羧酸与环氧树脂中的至少一个环氧基团进行开环酯化反应,形成环氧丙烯酸树脂;将含氟羧酸或者含氟羧酸酐与所述环氧丙烯酸树脂中的至少一个羟基进行酯化反应,形成含氟侧链基团的环氧丙烯酸树脂。本发明的紫外光固化光油是基于氟改性的环氧丙烯酸树脂来制备的。当将该光油用于基材表面时,可以提高材料的表面硬度、附着力、耐摩擦性、耐热冲击、耐手汗、防指纹性等至少一种性能,特别是在表面硬度、附着力、耐手汗、防指纹性等性能方面得到显著改善,从而提高材料本体的使用寿命。
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公开(公告)号:CN103529606B
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201310522181.X
申请日:2013-10-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1343
摘要: 本发明公开了一种液晶显示面板和显示装置,用以提供一种视角较宽的液晶显示面板和显示装置。所述液晶显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板,位于所述第一基板和第二基板之间的液晶层;还包括位于所述第一基板上靠近所述液晶层一侧的第一公共电极;以及位于所述第二基板上靠近所述液晶层一侧的第二公共电极;所述第一基板上还设置有像素电极;所述第二公共电极与所述像素电极无正对交叠面。
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公开(公告)号:CN102608859B
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201110024105.7
申请日:2011-01-21
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G03F1/76
CPC分类号: G03F1/76 , G03F1/50 , H01L27/1288
摘要: 本发明公开了一种掩模板及应用其制造薄膜晶体管阵列基板的方法,涉及半导体领域的掩模技术,解决了使用现有双色调掩模板的光刻工艺中,光刻胶上各图案区之间,高浓度显影液向低浓度显影液扩散的问题。本发明通过在掩模板上的两个图案区间设置冗余图案,并用该掩模板对光刻胶曝光,使得在显影过程中,光刻胶上形成的对应于掩模板冗余图案的光刻胶冗余图案,该光刻胶冗余图案可阻挡高浓度显影液向低浓度显影液扩散,从而提高了产品良率。本发明主要用于平面电场型薄膜晶体管液晶显示器阵列基板的制造。
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公开(公告)号:CN105826398A
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201610424194.7
申请日:2016-06-15
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L27/12
CPC分类号: H01L29/78696 , H01L27/1229 , H01L29/78609 , H01L29/78663 , H01L29/78672
摘要: 本发明提供一种薄膜晶体管、阵列基板及制作方法。其中,薄膜晶体管包括栅极和半导体层;所述半导体层包括:非晶硅图形和多晶硅图形;所述非晶硅图形的一部分嵌入但不贯通所述多晶硅图形,且位于所述多晶硅图形远离所述栅极的一侧。本发明的非晶硅图形一部分内嵌式在多晶硅图形,相比于现有的多晶硅/非晶硅的双层结构,可以继承非晶硅图形与多晶硅图形各自的优点,但缺点不再彼此作用。此外,非晶硅图形内嵌式在多晶硅图形的结构设计,可以降低非晶硅图形与多晶硅图形的接触面积,从而减少界面态缺陷。
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公开(公告)号:CN102629628B
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201110294950.6
申请日:2011-09-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L27/02 , H01L21/77 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L27/124 , G02F1/1362 , G02F1/136286 , G02F2001/136218 , G02F2001/136236 , H01L21/44 , H01L21/4885 , H01L27/1259 , H01L27/1288 , H01L27/156 , H01L29/41733 , H01L29/458 , H01L29/66765
摘要: 本发明的实施例提供一种TFT阵列基板及其制造方法和液晶显示器,涉及液晶面板制造领域,在防止半导体有源层受到污染的同时,减少了构图工序,提高了生产效率,降低了生产成本。TFT阵列基板包括:基板,基板上形成的栅线、栅极、栅绝缘层和半导体有源层,具有金属氧化物区域的金属阻挡层,金属阻挡层上形成有源极和漏极,金属阻挡层的金属氧化物区域位于所述源极、漏极之间,基板和所述源极、漏极上形成有保护层和与所述漏极连接的像素电极。本发明实施例用于制造TFT阵列基板。
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公开(公告)号:CN102879947B
公开(公告)日:2015-10-14
申请号:CN201210365824.X
申请日:2012-09-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1339 , G02B5/20 , G03F7/00
CPC分类号: G02B5/22 , G02F1/133514 , G02F1/133516 , G02F1/133555 , G02F2001/133519 , G03F7/0007
摘要: 本发明涉及彩色滤光片技术领域,公开了一种彩色滤光片及其制造方法和采用了这种彩色滤光片的半透半反式液晶显示装置,以解决彩色滤光片的平坦保护层上存在凹坑的问题。制造方法包括在透明基底表面上形成分隔物;形成色素层;在色素层中形成光孔;形成覆盖分隔物、色素层和光孔的光刻胶层;通过灰阶掩膜版进行一次曝光形成平坦保护层,所述平坦保护层位于所述色素层上方的部分的上表面与所述平坦保护层位于所述光孔上方的部分的上表面相平。通过上述方法制造的滤光片及采用这种彩色滤光片的半透半反式液晶显示装置。本发明解决了现有技术中彩色滤光片的平坦保护层上存在凹坑的技术问题。
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公开(公告)号:CN102446925B
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201010502101.0
申请日:2010-09-30
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L27/12 , H01L21/77 , G02F1/1362 , G02F1/1333
CPC分类号: H01L27/1288
摘要: 本发明公开了一种阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法。阵列基板包括:衬底基板,衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、有源层、钝化层和栅绝缘层;薄膜晶体管包括与栅线连接的栅电极、与数据线连接的源电极和与像素电极连接的漏电极;栅绝缘层形成于栅电极上方;钝化层设置于有源层与源电极和漏电极之间;且钝化层上设有源电极过孔和漏电极过孔;源电极和漏电极分别通过源电极过孔和漏电极过孔与有源层连接。本发明技术方案通过一次构图形成有源层、钝化层和栅绝缘层,减少了构图次数,提高了生产效率;同时实现了钝化层位于有源层上方的阵列基板结构,避免了在形成源电极和漏电极时对TFT沟道造成损伤。
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公开(公告)号:CN102736314B
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201210225266.7
申请日:2012-06-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC分类号: G02F1/133514 , G02B5/201
摘要: 本发明提供一种液晶面板,其具有多个像素区域,所述每个像素区域包括多个分别用于显示不同颜色的次像素区域,所述每个像素区域中,所述多个次像素区域的面积设置为随着各次像素区域的光透过率的递降而递增。相应地,提供一种液晶面板的制作方法以及液晶显示器。本发明液晶面板结构简单、且色彩协调性较好。
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公开(公告)号:CN102810571B
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201210287742.8
申请日:2012-08-13
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/77 , H01L21/768
摘要: 本发明公开了一种COA基板,包括TFT、彩色层和像素电极,所述TFT的漏极上方设置有贯穿所述彩色层的过孔,所述过孔中设置有导电填充层,所述像素电极通过所述导电填充层与所述TFT的漏极连接。本发明通过在COA基板的过孔中形成导电填充层,有效地解决了由于过孔深度过深或过孔内表面不平整导致的导电层断线问题,提高了良率。本发明还提供了一种显示装置和COA基板的制备方法。
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公开(公告)号:CN102683593B
公开(公告)日:2015-02-18
申请号:CN201210088843.2
申请日:2012-03-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L51/40
CPC分类号: H01L27/283 , H01L27/1288
摘要: 本发明提供一种有机薄膜晶体管阵列基板的制作方法,包括以下步骤:通过构图工艺分别形成包括栅电极、栅线、绝缘层、有机半导体层、阻挡层、源电极、漏电极以及数据线的图形,其中,所述有机半导体层和阻挡层的图形通过一次构图工艺形成。本发明所述有机薄膜晶体管阵列基板的制作方法与现有技术相比,能够进一步减少构图工艺次数,即只需采用四次构图工艺,因而提高了生产效率,降低了生产成本。
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