一种磁控溅射含银超低摩擦系数类石墨碳膜的制备方法

    公开(公告)号:CN105644059B

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201510582261.3

    申请日:2015-09-14

    Abstract: 一种磁控溅射含银超低摩擦系数类石墨碳膜的制备方法,先处理基体表面是一个完全清洁的表面;再将镶嵌有Ag和Y镶块的碳靶和Cr靶安装在炉体内部,然后通过溅射的方法先基体表面处理,再溅射Cr缓冲层,最后Cr靶和碳靶同时溅射,得到含银超低摩擦系数类石墨碳膜;本发明超低摩擦系数类石墨碳膜的制备工艺简单,所制备的膜层具有低的内应力,膜层均匀致密,耐磨性好,缓冲层Cr可以提高超低类石墨碳膜膜基结合强度,塑性软质元素Ag的添加,降低了超低摩擦系数类石墨碳膜的摩擦系数,Y元素加入,提高了膜层致密性、承载能力及高温耐磨性。

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