一种二氧化钒薄膜制备方法

    公开(公告)号:CN104032278A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410258898.2

    申请日:2014-06-12

    Abstract: 本发明公开了一种二氧化钒薄膜的制备方法。通过对金属钒或低价态钒氧化物薄膜进行真空条件下通氧退火得到有相变二氧化钒薄膜。根据低价钒氧化物的类型和厚度选择最合适的氧气分压、退火温度和退火时间可以得到性能优异的二氧化钒薄膜,2400nm处红外调节率可达58%,可见光透过率43%。通过对已经掺杂的低价态钒氧化物薄膜氧化得到掺杂的二氧化钒薄膜,该掺杂可以调节二氧化钒相变温度以适应不同需求。该种二氧化钒薄膜可以应用到光信息存储、光电开关和智能窗以及非制冷红外焦平面成像上。本发明与大规模镀膜玻璃生产线工艺兼容,可以在非晶玻璃上生长性能良好的二氧化钒薄膜。

    一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法

    公开(公告)号:CN103243885B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201310148800.3

    申请日:2013-04-26

    Abstract: 本发明公开了一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法。该膜系自透明基底向上依次包括镀制在透明基底上的下层氮化硅薄膜、可见光吸收薄膜、金属薄膜以及上层氮化硅保护膜。本发明的膜系在可见光范围对太阳光的平均反射率在5%~30%,而辐射率小于10%。同时本发明的膜系在保持对可见光低反射、红外低辐射率前提下,还具有外观颜色可按需求进行调节的特点,丰富多彩的外观颜色可更好地实现了窗槛墙对建筑的美化效果。由于采用了上、下层氮化硅保护膜夹心结构,本发明的膜系还具备可钢化特性。本发明的颜色可调的低辐射窗槛墙膜系可直接通过工业化磁控溅射制备方法在大面积透明基底上连续镀制,易于实现低成本、大规模工业化生产。

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