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公开(公告)号：CN111199859B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN201811381277.8
申请日：2018-11-20
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种扫描宽带离子束注入机，包括旋转靶盘以及用于形成扫描宽带离子束的扫描宽带离子束形成组件，所述旋转靶盘上设有与旋转靶盘中心重合的环形注入区域，所述环形注入区域内均匀布置有多个晶圆装载区，扫描宽带离子束形成组件形成的扫描宽带离子束的宽度为a、所述环形注入区域的半径为b，则a≥b。本发明具有能够降低在大剂量注入、高产能的应用场景下的晶片表面的温升，满足一些对温度敏感的特殊材料的注入工艺要求的优点。
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公开(公告)号：CN111128650B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201811276370.2
申请日：2018-10-30
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/08 , H01J37/24 , H01J37/317
Abstract: 本发明公开了一种直热式固体金属离子源，包括离子源弧室、灯丝部件和含铝部件，灯丝部件包括灯丝端面、螺旋侧面和导电部，灯丝端面由单根灯丝径向盘旋形成，螺旋侧面由单根灯丝轴向螺旋形成，导电部与灯丝端面和螺旋侧面连接，含铝部件包括相互连接的第一环体和第二环体，离子源弧室一端具有安装孔，第二环体装于安装孔内，第一环体伸入离子源弧室内，灯丝端面和螺旋侧面设于第一环体内，导电部穿出第二环体位于离子源弧室外。本发明简化了离子源本身和其外围配电的结果，提高了离子源运行的可靠性，同时Al离子源的寿命有较大程度的提升。
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公开(公告)号：CN111118597B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201811287220.1
申请日：2018-10-31
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: C30B19/06
Abstract: 本发明公开了一种用于水平液相外延生长的石墨舟，包括舟底座、设于舟底座内的舟滑块、以及与舟底座相连的舟盖板，所述舟底座底部于左右两侧设有供机械手取放的取放部，两所述取放部之间设有支撑部，所述支撑部下方设有舟托板，所述舟托板顶部设有下凹槽，所述支撑部底部设有上凹槽，所述下凹槽与所述上凹槽配合形成内控热耦放置孔。本发明具有结构简单、使用方便、避免对拉杆和内控热耦反复操作、有利于降低内控热耦和拉杆损坏风险等优点。
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公开(公告)号：CN111118597A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201811287220.1
申请日：2018-10-31
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: C30B19/06
Abstract: 本发明公开了一种用于水平液相外延生长的石墨舟，包括舟底座、设于舟底座内的舟滑块、以及与舟底座相连的舟盖板，所述舟底座底部于左右两侧设有供机械手取放的取放部，两所述取放部之间设有支撑部，所述支撑部下方设有舟托板，所述舟托板顶部设有下凹槽，所述支撑部底部设有上凹槽，所述下凹槽与所述上凹槽配合形成内控热耦放置孔。本发明具有结构简单、使用方便、避免对拉杆和内控热耦反复操作、有利于降低内控热耦和拉杆损坏风险等优点。
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公开(公告)号：CN107513761B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201710537755.9
申请日：2017-07-04
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
Abstract: 本发明公开了一种石墨舟进出过渡负载锁，包括锁腔、以及用于密封锁腔的外门和内门，所述锁腔内设有滑轨以及用于承载石墨舟的托盘，所述滑轨位于所述外门和内门之间，所述托盘通过一滑块装设于所述滑轨上，所述锁腔上设有用于驱动所述滑轨的驱动机构。一种石墨舟进出上述负载锁的方法，包括以下步骤：打开外门，将托盘沿着滑轨拉出锁腔，将石墨舟放置于托盘上，然后将托盘反向推回锁腔内；关闭外门，将锁腔内抽真空；达到设计指标要求后，打开内门，驱动机构带动滑轨向内门移动，滑轨带动滑块、托盘及石墨舟整体移动直至石墨舟移出锁腔。本发明具有自动化程度高、操作便利、效率高、不影响石墨舟使用寿命等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109872938A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201711269543.3
申请日：2017-12-05
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/09
Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳器件制造的离子注入机，包括依次相连的离子源、质量分析器、束流聚焦电透镜系统、束流静电扫描系统及载片腔室，还包括用于调节束斑形状和和束流大小的光阑组件、以及用于点注入的点注入掩膜板，所述光阑组件包括设于离子源和质量分析器之间的可调光阑、设于质量分析器和束流聚焦电透镜系统之间的限束光阑以及设于束流静电扫描系统和载片腔室之间的终端注入光阑，所述点注入掩膜板位于载片腔室内，所述终端注入光阑和所述点注入掩膜板上开设点注入微孔。本发明具有可简化工艺过程，能够实现微米级的低剂量、高精度注入等优点。
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公开(公告)号：CN106409641B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201610857751.4
申请日：2016-09-28
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/30
Abstract: 本发明公开了一种引出电极的电极轴驱动装置，包括电机、主动带轮、从动带轮及绕设于主动带轮和从动带轮上的传动带，所述电机的输出轴与所述主动带轮的轮轴连接，还包括连续调节组件，所述连续调节组件包括凸轮、摆杆及用于使摆杆的摆动端与凸轮紧贴的弹性件，所述凸轮安装于所述从动带轮的轮轴上，所述摆杆安装于引出电极的电极轴上。本发明具有结构简单、能实现连续调节和微小角度调节等优点。
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公开(公告)号：CN104867803B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201510262780.1
申请日：2015-05-21
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/141
Abstract: 本发明涉及为一种用于离子注入机的30°平行透镜，包括结构及尺寸一致且上下对称安装的上磁极和下磁极，上磁极的上方设有上磁轭，下磁极的下方设有下磁轭，上磁极的顶面与上磁轭的底面连接，而下磁极的底面与下磁轭的顶面连接；该平行透镜还设有两个中间磁轭，两个中间磁轭的顶端均与上磁轭的底面连接，而两个中间磁轭的底端均与下磁轭的顶面连接，且上磁极和下磁极置于两个中间磁轭之间；上磁极的下磁极面与下磁极的上磁极面边缘的均由多条弧线构成。本发明磁极面形状合理，可以使离子束注入角度保持一致、保证均匀性和重复性，并可以防止入射离子在半导体晶片的晶格结构上产生沟道效应，也可以使之产生均匀的需要的沟道。
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公开(公告)号：CN105470086B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201510912897.X
申请日：2015-12-11
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/05 , H01J37/02
Abstract: 本发明公开了一种高能多元素离子注入机，包括离子源、质量分析器、射频加速系统和靶室，质量分析器将离子源产生的离子束筛选后传输给射频加速系统进行加速，经射频加速系统加速到高能量状态的离子束传输至靶室内完成离子束注入，靶室内设有靶台运动机构，靶台运动机构兼具水平方向和竖直方向的两个运动维度，在靶室内以二维扫描方式完成离子束注入。本发明具有结构简单紧凑、离子注入均匀性好、离子注入能量污染小的优点。
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公开(公告)号：CN105470085B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201510878350.2
申请日：2015-12-04
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
IPC: H01J37/317 , H01J37/32 , H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种高真空内移动测束法拉第驱动装置，包括高真空密封腔室，高真空密封腔室外设有驱动装置，高真空密封腔室内设有移动法拉第，驱动装置驱动移动法拉第于高真空密封腔室内移动以开展检测，高真空密封腔室内设有平行布置的丝杆螺母副组件和滑动导轨组件，移动法拉第同时与丝杆螺母副组件和滑动导轨组件相连，驱动装置驱动丝杆螺母副组件运动以带动移动法拉第沿滑动导轨组件移动。本发明具有结构简单紧凑、移动平稳性好、真空密封性好的优点。
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