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公开(公告)号：CN104597580B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201510041238.3
申请日：2015-01-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种平面类光学元件胶结方法，包括以下步骤：将平面光学元件安装到镂空定位槽中并定位；固定连接件于调整夹具中；架设光学监视系统；取下连接件，做表面处理、涂胶；利用调整夹具调整连接件位姿，并通过光学监视系统全程观测，实现对平面光学元件与胶结连接件间相对位置关系精密调整、胶层厚度及均匀性精密控制，通过本发明方法完成的多点胶结应力均匀、厚度一致性高、胶层均匀，光学元件附加面形不超过100nm，对光学元件性能影响极小。对粘性流体胶水厚度实现了连续控制，且操作简单。
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公开(公告)号：CN104597580A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510041238.3
申请日：2015-01-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种平面类光学元件胶结方法，包括以下步骤：将平面光学元件安装到镂空定位槽中并定位；固定连接件于调整夹具中；架设光学监视系统；取下连接件，做表面处理、涂胶；利用调整夹具调整连接件位姿，并通过光学监视系统全程观测，实现对平面光学元件与胶结连接件间相对位置关系精密调整、胶层厚度及均匀性精密控制，通过本发明方法完成的多点胶结应力均匀、厚度一致性高、胶层均匀，光学元件附加面形不超过100nm，对光学元件性能影响极小。对粘性流体胶水厚度实现了连续控制，且操作简单。
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公开(公告)号：CN115574716A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211180010.9
申请日：2022-09-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01B11/00
Abstract: 本申请属于测量与制造技术领域，公开了一种基于光学检测的结构件对接用位姿测量系统，包括平行设置的两导轨和测量用基准板，导轨上滑动设置有光学平台，光学平台前后两端设置第一调整架和第二调整架，第一调整架和第二调整架上分别设置第一、第二内调焦望远镜，第一、第二内调焦望远镜与测量系统连接，第一调整架、第二调整架在光学平台进行上、下、左、右位移以及偏摆、俯仰动作，测量用基准板用于与基准结构件、待对接结构件连接，其前后两端分别设置有第一、二测量十字标。通过内调焦望远镜对焦测量用基准板上的第一、二测量十字标，分别对基准结构件和待对接结构件精准定位，实现基准结构件和待对接结构件高精度对接，提高产品组装质量。
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公开(公告)号：CN106970450A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710367089.9
申请日：2017-05-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/00
CPC classification number: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种大口径光学元件的面形弹性调整装置，该装置包括底框、光学元件、压框、压紧螺钉和调整模块；光学元件通过其自身的迎光面与底框内的三个支撑面接触安装，压框通过压紧螺钉将光学元件固定在底框内部，调整模块安装在压框上，调整模块的运动执行部件中具有点接触的传动环节，调整模块的接触面与光学元件的背光面接触，调整模块在压紧过程只会对光学元件施加正向压力，调整模块在调节过程中的压紧力通过自身的力传感器及外部辅助系统进行实时的监测。本发明以各个作用点的微小压紧力作为系统的输出端，与实际使用过程中只要求保证高分辨率可调的压力而对运动部件分辨率没有要求的需求相符合，结构简单易行。
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公开(公告)号：CN106970449B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201710367034.8
申请日：2017-05-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/00
Abstract: 本发明公开了一种大口径晶体光学元件面型预测与再现的调节系统和方法，调节系统包括矩形框、光学元件和组合模块；组合模块固定连接在矩形框上，光学元件通过组合模块固定连接在矩形框内部，光学元件的底面与组合模块的支撑梁接触面进行接触安装，光学元件的顶面与组合模块的压力施加面和力矩施加面进行接触安装；夹持点的夹持力和力矩的大小均可进行独立调节；组合模块的力矩施加过程采用浮动加载的结构，力矩调整的过程不会对光学元件和压力调整过程产生影响。本发明采用简单易行的结构以单点标定多点耦合计算方法和周向力和力矩调整方式为基础，实现对大口径光学元件面型的精密调节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112629782B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202011602181.7
申请日：2020-12-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M3/34
Abstract: 本发明公开了一种自密封式真空检测系统及抽真空检漏方法，系统包括箱体和罩盖，罩盖底部设置有可上下移动的压板，罩盖顶部固定安装有密封环，罩盖上设有避让孔，该避让孔内设有柔性变形部件，柔性变形部件下端连接在压板上，上端与密封环连接。方法包括步骤一：将待检模块装至箱体的敞口处；步骤二：盖上罩盖，使压板周向边缘与待检模块接触；步骤三：利用真空泵对箱体和罩盖抽真空，在压差的作用下柔性变形部件伸长并带动压板向下挤压待检模块，使待模块与箱体之间密封；步骤四：向罩盖内充入氦气至预设值；步骤五：利用检漏仪测量是否有氦气渗透至箱体内。有益效果是：待检模块能够在真空密封腔内快速自动密封，并完成密封性能检测。
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公开(公告)号：CN112731619A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN202011605385.6
申请日：2020-12-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/185
Abstract: 本发明公开了一种面形补偿系统，包括支撑板，所述支撑板上安装有沿径向分布的内密封圈和外密封圈，内密封圈和外密封圈均凸出于支撑板的表面，支撑板在对应内密封圈限定的区域内设有内气孔，在对应内密封圈与外密封圈限定的区域内设有外气孔，所述内气孔通过第一气管连接有第一真空发生器或进气阀门，支撑板在对应内密封圈限定的区域内连接有真空计，所述外气孔通过第二管道连接有第二真空发生器。本发明的有益效果是：通过利用内外气压压差，以内密封圈为支点形成弯矩，实现了元件因重力或其它外力导致的面形形变的补偿。
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公开(公告)号：CN112629782A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011602181.7
申请日：2020-12-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M3/34
Abstract: 本发明公开了一种自密封式真空检测系统及抽真空检漏方法，系统包括箱体和罩盖，罩盖底部设置有可上下移动的压板，罩盖顶部固定安装有密封环，罩盖上设有避让孔，该避让孔内设有柔性变形部件，柔性变形部件下端连接在压板上，上端与密封环连接。方法包括步骤一：将待检模块装至箱体的敞口处；步骤二：盖上罩盖，使压板周向边缘与待检模块接触；步骤三：利用真空泵对箱体和罩盖抽真空，在压差的作用下柔性变形部件伸长并带动压板向下挤压待检模块，使待模块与箱体之间密封；步骤四：向罩盖内充入氦气至预设值；步骤五：利用检漏仪测量是否有氦气渗透至箱体内。有益效果是：待检模块能够在真空密封腔内快速自动密封，并完成密封性能检测。
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公开(公告)号：CN109387951A
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201811497646.X
申请日：2018-12-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种光学器件装校平台及单口径电光开关的装校工艺，支撑架的上端安装有支撑台，支撑台的中部设有具有导向通孔的导向柱，导向通孔的下端安装有调节螺栓，支撑台上设有晶体调节块，晶体调节块的一端设有滑动安装在所述导向通孔内的延伸部；支撑台上还固定安装有沿晶体调节块周向环绕的定位框，将晶体真片放置在晶体调节块上，再将普克尔盒放置在支撑台上，调整所述调节螺栓使晶体真片与普克尔盒平面处于同一平面上，并锁紧止锁螺钉，然后在间隙中填充有机弹性硅胶，并固化24小时，固化完成后装配密封圈和玻璃并旋紧金属压框，在填充有机弹性硅胶时晶体真片没有移动，因此不会产生内应力。
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公开(公告)号：CN104501742A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410672006.3
申请日：2014-11-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明公开了一种基于单色光自准直仪二次准直原理的劈角测量方法，首先利用单色光自准直仪对待测劈板前表面进行自准直，测得此时待测劈板后表面反射像与前表面反射像夹角；然后利用单色光自准直仪对待测劈板后表面进行自准直，测得此时待测劈板后表面反射像与前表面反射像夹角；最后基于反射、折射定律，得出劈板劈角计算公式并将两次测量结果联立二元一次方程组，解出劈板劈角。其显著效果是：本发明基于光学自准直、折射、反射定律的基本光学原理，测量精度高，成本低，操作简单，具有很高的通用性与实用性；通过本方法不仅能准确测出待测劈板劈角，还能测出待测劈板材料对于自准直仪光源的折射率。
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